恭喜中國科學技術大學龔偉獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中國科學技術大學申請的專利基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法及系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119380173B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-25發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411942947.4,技術領域涉及:G06V20/00;該發明授權基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法及系統是由龔偉;鄧杰安;潘宇涵設計研發完成,并于2024-12-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法及系統在說明書摘要公布了:本發明公開了基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法及系統,涉及圖像處理技術領域,將模板印章和圖像增強后的待測印章歸一化后輸入到鑒偽模型,輸出兩個嵌入向量,計算兩個嵌入向量之間的歐氏距離,將歐氏距離小于預設距離閾值對應的待測印章鑒定為真,反之則鑒定為假;鑒偽模型的訓練過程為:對所獲取的待測印章和對應的模板印章進行數據增強后進行多尺度處理,得到待測圖像向量和模板圖像向量,分別將待測圖像向量和模板圖像向量依次輸入到VIT網絡、通道注意力網絡中,以輸出待測嵌入向量和模板嵌入向量,計算待測嵌入向量和模板嵌入向量之間的歐氏距離;該印章比對鑒偽方法及系統旨在充分提取待測印章特征。
本發明授權基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法及系統在權利要求書中公布了:1.基于注意力機制和圖像增強的印章比對鑒偽方法,其特征在于,將模板印章和圖像增強后的待測印章歸一化后輸入到鑒偽模型,輸出兩個嵌入向量,計算兩個嵌入向量之間的歐氏距離,將歐氏距離小于預設距離閾值對應的待測印章鑒定為真,將歐氏距離大于等于預設距離閾值對應的待測印章鑒定為假;其中待測印章的圖像增強過程具體為:將待測印章復制為兩份,其中一份待測印章進行伽馬變換得到第一變換圖像;另一份待測印章通過高斯模糊得到第二變換圖像,將第二變換圖像依次經過高反差保留、USM銳化處理后得到的第三變換圖像;將第二變換圖像和第三變換圖像疊加得到第四變換圖像,所述疊加具體為對第二變換圖像和第三變換圖像掩膜,對掩膜后圖像像素值小于0.5的區域執行乘法混合,對掩膜后圖像像素值大于等于0.5的區域執行屏幕混合,并將乘法混合和屏幕混合后的結果相加得到第四變換圖像;將第一變換圖像和第四變換圖像加權得到圖像增強后的待測印章;所述鑒偽模型的訓練過程如下:步驟一、對所獲取的待測印章和對應的模板印章進行數據增強,以構建訓練圖像數據集;步驟二、對數據增強后的待測印章進行多尺度處理得到多個待測圖像特征,對多個待測圖像特征求和取平均得到待測圖像向量;對數據增強后的模板印章進行多尺度處理得到多個模板圖像特征,對多個模板圖像特征求和取平均得到模板圖像向量;步驟三、分別將待測圖像向量和模板圖像向量依次輸入到VIT網絡、通道注意力網絡中,以輸出待測嵌入向量和模板嵌入向量,所述VIT網絡以VIT模型為基礎,去除VIT模型最后的歸一化層后連接到通道注意力網絡的輸入,所述VIT網絡在對輸入圖像向量進行處理時,在原始位置編碼的基礎上進行雙三次插值,根據輸入圖像向量的尺寸動態調節位置編碼,所述輸入圖像向量為待測圖像向量和模板圖像向量;步驟四、計算待測嵌入向量和模板嵌入向量之間的歐氏距離,基于歐氏距離構建損失函數以訓練鑒偽模型。
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