恭喜朗姆研究公司尚卡爾·斯瓦米納坦獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利用于半導體圖案化應用的摻雜ALD膜獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113488379B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110564747.X，技術領域涉及：H01L21/033；該發明授權用于半導體圖案化應用的摻雜ALD膜是由尚卡爾·斯瓦米納坦;理查德·菲利普斯;阿德里安·拉瓦伊設計研發完成，并于2017-07-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于半導體圖案化應用的摻雜ALD膜在說明書摘要公布了：本發明涉及用于半導體圖案化應用的摻雜ALD膜。本文描述了使用正性圖案化方案將襯底圖案化的方法和裝置。方法包括接收具有圖案化芯材的襯底，在圖案化芯材上保形沉積摻雜間隔物材料，相對于摻雜間隔物材料選擇性地蝕刻芯材以形成間隔物掩模，并且使用間隔物掩模蝕刻襯底上的目標層?？梢允褂门?、鎵、磷、砷、鋁和鉿中的任何一種對間隔物材料進行摻雜。實施方式適用于在多個圖案化應用中的應用。
本發明授權用于半導體圖案化應用的摻雜ALD膜在權利要求書中公布了：1.一種對襯底進行圖案化的方法，該方法包括：a相對摻雜間隔物選擇性地蝕刻圖案化芯材以形成掩模，其中所述圖案化芯材的蝕刻速率比所述摻雜間隔物的蝕刻速率快5至20倍，并且其中所述摻雜間隔物包含摻雜劑密度介于1E20atcc和5E22atcc之間；以及b使用所述掩模蝕刻目標層。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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