恭喜應用材料公司V·巴巴揚獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利用于光刻膠晶片的曝光后處理的方法和裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113835299B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111180980.4，技術領域涉及：G03F7/16；該發明授權用于光刻膠晶片的曝光后處理的方法和裝置是由V·巴巴揚;D·A·小布齊伯格;梁奇偉;L·戈代;S·D·耐馬尼;D·J·伍德洛夫;R·哈里斯;R·B·摩爾設計研發完成，并于2016-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于光刻膠晶片的曝光后處理的方法和裝置在說明書摘要公布了：本文所述的實施方式涉及用于執行浸沒場引導的曝光后烘烤工藝的方法和裝置。本文所述的裝置的實施方式包括腔室主體，所述腔室主體限定處理容積。基座可設置在所述處理容積內，并且第一電極可耦接到所述基座。可移動桿可延伸穿過所述腔室主體且與所述基座相對，并且第二電極可耦接到所述可移動桿。在某些實施方式中，流體容納環可耦接到所述基座，并且電介質容納環可耦接到所述第二電極。
本發明授權用于光刻膠晶片的曝光后處理的方法和裝置在權利要求書中公布了：1.一種基板處理方法，包括：將基板定位在處理容積內的第一電極上；將第二電極移動到與所述基板相鄰的處理位置，其中電介質容納環耦接到所述第二電極；通過所述電介質容納環將處理流體引入到所述處理容積；在所述第一電極與所述第二電極之間生成電場，并且經由所述處理流體將所述電場施加到所述基板；將所述處理流體從所述處理容積移除；將沖洗流體引入到所述處理容積；旋轉所述基板以將所述沖洗流體從所述基板移除；以及將所述沖洗流體從所述處理容積移除。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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