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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利多個帶電粒子束的設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114420523B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210041735.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/145；該發(fā)明授權(quán)多個帶電粒子束的設(shè)備是由任偉明;劉學(xué)東;胡學(xué)讓;陳仲瑋設(shè)計研發(fā)完成，并于2016-11-30向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本多個帶電粒子束的設(shè)備在說明書摘要公布了：披露了多個帶電粒子束的設(shè)備。提出了一種多束設(shè)備中的二次投影成像系統(tǒng)，該二次投影成像系統(tǒng)使二次電子檢測具有高收集效率和低串?dāng)_。該系統(tǒng)采用一個變焦透鏡，一個投影透鏡和一個防掃描偏轉(zhuǎn)單元。變焦透鏡和投影透鏡分別執(zhí)行變焦功能和防旋轉(zhuǎn)功能，以相對于多個一次細(xì)束的著陸能量和或電流保持總成像放大倍率和總圖像旋轉(zhuǎn)。防掃描偏轉(zhuǎn)單元執(zhí)行防掃描功能以消除由于多個一次細(xì)束的偏轉(zhuǎn)掃描而導(dǎo)致的動態(tài)圖像移位。

本發(fā)明授權(quán)多個帶電粒子束的設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種多束成像系統(tǒng)，包括：磁透鏡，其被配置成調(diào)節(jié)所述多束成像系統(tǒng)的多個帶電粒子二次束的旋轉(zhuǎn)，以使得能夠?qū)崿F(xiàn)由相對應(yīng)的多個檢測元件檢測所述多個帶電粒子二次束，其中，所述磁透鏡被配置成產(chǎn)生第二旋轉(zhuǎn)，所述第二旋轉(zhuǎn)減少由所述多束成像系統(tǒng)的另一部件所產(chǎn)生的第一旋轉(zhuǎn)；以及其中，所述另一部件包括物鏡，所述物鏡被配置成將多個帶電粒子細(xì)束聚焦到樣品表面上。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。