恭喜東莞新科技術(shù)研究開發(fā)有限公司張建獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜東莞新科技術(shù)研究開發(fā)有限公司申請的專利去除晶圓表面雜質(zhì)的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114284130B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202011029784.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)去除晶圓表面雜質(zhì)的方法是由張建設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-09-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本去除晶圓表面雜質(zhì)的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及微電子技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種去除晶圓表面雜質(zhì)的方法，包括：采用堿溶液對晶圓進(jìn)行清洗；采用乙醇溶液對所述晶圓進(jìn)行清洗；將所述晶圓置于真空室中，對所述晶圓進(jìn)行加熱。采用本發(fā)明實施例，能夠有效去除晶圓表面殘留的氟離子雜質(zhì)，從而提高了晶圓的良率。
本發(fā)明授權(quán)去除晶圓表面雜質(zhì)的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種去除晶圓表面雜質(zhì)的方法，其特征在于，包括：采用堿溶液對晶圓進(jìn)行清洗，用于去除直徑10-15納米的氟離子塵埃；采用乙醇溶液對所述晶圓進(jìn)行清洗，用于去除直徑5-10納米的氟離子塵埃；將所述晶圓置于真空室中，對所述晶圓進(jìn)行加熱，用于去除0.5-5納米的氟離子塵埃。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人東莞新科技術(shù)研究開發(fā)有限公司，其通訊地址為：523087 廣東省東莞市南城區(qū)宏遠(yuǎn)工業(yè)區(qū)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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