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攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
  • 本發(fā)明涉復(fù)印機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說(shuō)涉及一種調(diào)色劑容器以及安裝有該容器的復(fù)印機(jī),其中調(diào)色劑容器,包括:一個(gè)容納調(diào)色劑的容器主體;一個(gè)支撐連接容器主體的支架,支架包括具有開(kāi)口的嵌合部;一個(gè)閘板,用于將調(diào)色劑容器的開(kāi)口打開(kāi)和關(guān)閉;還包括一個(gè)阻隔件...
  • 本實(shí)用新型提供有一種可防止紙張粘連的復(fù)印機(jī)軸,包括轉(zhuǎn)軸,所述套環(huán)下部設(shè)有視覺(jué)監(jiān)測(cè)器,所述第二伸縮桿下部設(shè)有夾板。該可防止紙張粘連的復(fù)印機(jī)軸,當(dāng)紙張被送入復(fù)印機(jī)時(shí),推紙輥會(huì)根據(jù)復(fù)印機(jī)的指令,以適當(dāng)速度和方向旋轉(zhuǎn),推動(dòng)紙張前進(jìn),同時(shí),推紙輥還能...
  • 本實(shí)用新型提供一種可拆卸地安裝至成像設(shè)備中的處理盒組件,處理盒具有相互結(jié)合的第一單元和第二單元;第一單元形成有第一單元空缺部,第二單元形成有第二單元空缺部,位于后方的處理盒的第二單元子殼體的至少一部分進(jìn)入與該處理盒相鄰的前方的處理盒的第一單...
  • 本發(fā)明提供一種可靠性高、制造容易的光學(xué)部件驅(qū)動(dòng)裝置、照相機(jī)裝置以及電子設(shè)備。OIS透鏡驅(qū)動(dòng)裝置(2)具備基座(3)、固定在基座(3)上的下部卷曲板(4)、在下部卷曲板(4)上滑動(dòng)的上部卷曲板(5)以及兩端固定在下部卷曲板(4)和上部卷曲板(...
  • 本發(fā)明提供透鏡單元以及相機(jī)模塊,其抑制光學(xué)性能的降低,并且適當(dāng)?shù)丶訜嵬哥R。透鏡單元(1)具備:拍攝光學(xué)系統(tǒng)(2),從物側(cè)起依次包括第一透鏡(21)和第二透鏡(22);間隔件(4),被夾持在第一透鏡(21)的像側(cè)平面(21b)與第二透鏡(22...
  • 本公開(kāi)內(nèi)容涉及光敏樹(shù)脂組合物,并且提供了可溶于環(huán)境友好的水性溶劑、可用水性顯影溶液顯影并且能夠提供具有優(yōu)異的耐化學(xué)性、低介電常數(shù)特性、低介電損耗特性和機(jī)械特性的絕緣膜的光敏樹(shù)脂組合物。
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種使用漸進(jìn)式曝光機(jī)的新型掩膜制作方法及系統(tǒng),方法包括提供一種使用漸進(jìn)式曝光機(jī)的新型掩膜制作系統(tǒng),包括漸進(jìn)式曝光機(jī)、主感光性間隔件及干涉感光性間隔件;漸進(jìn)式曝光機(jī)通過(guò)主感光性間隔件向待曝光掩膜版的第一位置進(jìn)行全曝光,獲取第一光刻...
  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N表面等離子體光刻成像結(jié)構(gòu)、方法及計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì),包括:反射層、光刻膠、第一諧振腔結(jié)構(gòu)和掩模層;反射層設(shè)置在待刻蝕結(jié)構(gòu)一側(cè),光刻膠設(shè)置在反射層遠(yuǎn)離待刻蝕結(jié)構(gòu)的一側(cè),第一諧振腔結(jié)構(gòu)設(shè)置在光刻膠遠(yuǎn)離待刻蝕結(jié)構(gòu)的一側(cè);掩模層設(shè)置在第一...
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種基于低電壓冰膠電子束曝光的三維灰度結(jié)構(gòu)及三維微納結(jié)構(gòu)的制造方法,包括:在加工面上沉積一層冰層;然后利用低能量電子束分層曝光,去除每層特定部分的冰層,最終形成帶有特定灰度圖案的三維灰度冰雕結(jié)構(gòu);可選擇的在三維冰雕結(jié)構(gòu)采用物理氣...
  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N光刻機(jī)臺(tái)間套刻精度差異的預(yù)補(bǔ)償方法,包括:步驟一,根據(jù)當(dāng)前批次晶圓的當(dāng)前層和前一層的材料屬性和功能屬性,獲取相對(duì)該前一層轉(zhuǎn)機(jī)對(duì)該當(dāng)前層實(shí)施光刻的套刻精度歷史數(shù)據(jù);步驟二,在所述歷史數(shù)據(jù)中扣除相對(duì)該前一層用同一光刻機(jī)對(duì)該當(dāng)前層實(shí)...
  • 本發(fā)明屬于太陽(yáng)能熱發(fā)電技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種大功率等級(jí)槽塔耦合太陽(yáng)能熱發(fā)電系統(tǒng),熱能儲(chǔ)存裝置包括低溫熔鹽儲(chǔ)罐、中溫熔鹽儲(chǔ)罐和高溫熔鹽儲(chǔ)罐;槽式集熱器的集熱管進(jìn)口和出口分別與低溫熔鹽儲(chǔ)罐的出口和中溫熔鹽儲(chǔ)罐的進(jìn)口連接;塔式集熱器的集熱塔進(jìn)口和出口...
  • 本實(shí)用新型屬于晶圓制造技術(shù)領(lǐng)域,具體提供了一種轉(zhuǎn)盤(pán)式光刻機(jī)的CCD調(diào)整機(jī)構(gòu)系統(tǒng),包括底板,底板上設(shè)置有兩組X方向固定導(dǎo)軌,X方向固定導(dǎo)軌上設(shè)置有兩個(gè)對(duì)稱(chēng)的CCD調(diào)整機(jī)構(gòu),每個(gè)CCD調(diào)整機(jī)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)一個(gè)CCD組件的X、Y方向調(diào)整,每個(gè)CCD調(diào)...
  • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種投影儀幕布調(diào)節(jié)裝置,包括投影布盒體,投影布盒體的內(nèi)部設(shè)置有投影布布體,投影布盒體設(shè)置有用于適應(yīng)投影布布體所處位置的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括調(diào)節(jié)框,調(diào)節(jié)框的內(nèi)部滑動(dòng)設(shè)置有調(diào)節(jié)板,調(diào)節(jié)板位于投影布盒體上,調(diào)節(jié)板用于調(diào)整投影布盒...
  • 本發(fā)明的實(shí)施方式提供了一種相機(jī)致動(dòng)器,其包括:殼體;第一透鏡組件,該第一透鏡組件相對(duì)于殼體沿光軸方向移動(dòng);滾珠部分,該滾珠部分設(shè)置在第一透鏡組件中;以及驅(qū)動(dòng)部分,該驅(qū)動(dòng)部分使第一透鏡組件移動(dòng),其中:第一透鏡組件包括容納部分和導(dǎo)引部分,容納部...
  • 本發(fā)明涉及抗蝕劑下層膜形成用組成物、抗蝕劑下層膜、抗蝕劑下層膜的制造方法、圖案形成方法、及半導(dǎo)體裝置的制造方法。本發(fā)明的課題為提供一種可形成會(huì)表現(xiàn)優(yōu)異的加工耐性及優(yōu)異的氣體穿透性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組成物。本發(fā)明的解決手段為一...
  • 本發(fā)明屬于軌道交通技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種地鐵站臺(tái)門(mén)系統(tǒng)的控制及通訊裝置,包括:四個(gè)控制器以及分別與各個(gè)控制器通訊連接的交換機(jī)以形成環(huán)形網(wǎng)絡(luò);裝置被配置有控制命令及通訊命令,控制命令表示為通過(guò)控制器執(zhí)行信號(hào)系統(tǒng)的指令而向站臺(tái)門(mén)控裝置發(fā)送開(kāi)閉門(mén)指...
  • 本發(fā)明涉及一種翼身融合布局飛機(jī)地面運(yùn)動(dòng)綜合系統(tǒng)及控制方法,包括飛行綜合控制系統(tǒng)、地面運(yùn)動(dòng)綜合控制面板、指令采集和備份單元、綜合控制計(jì)算機(jī)單元、作動(dòng)器伺服控制單元、發(fā)動(dòng)機(jī)控制器、1553B總線和429總線;飛行綜合控制系統(tǒng)與指令采集和備份單元...
  • 本發(fā)明涉及一種用于ArF浸沒(méi)式光刻膠頂層涂層的組合物,所述的組合物包括聚合物I、聚合物II、光致產(chǎn)酸劑和電子級(jí)溶劑,所述的聚合物I和聚合物II結(jié)構(gòu)式如下:
  • 本發(fā)明提供一種半色調(diào)掩膜板,所述半色調(diào)掩膜板包括金屬遮光圖形,所述金屬遮光圖形包括多個(gè)圖形部,所述金屬遮光圖形還包括靜電釋放導(dǎo)線,至少一對(duì)相鄰的圖形部之間連接有所述靜電釋放導(dǎo)線,對(duì)于至少一對(duì)被所述靜電釋放導(dǎo)線電連接的圖形部而言,至少其中一個(gè)...
  • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種折疊柔光箱,包括傘盤(pán)座,第一支撐座,第二支撐座和鎖止結(jié)構(gòu);傘盤(pán)座具有擴(kuò)口槽及活動(dòng)槽,活動(dòng)槽在傘盤(pán)座的內(nèi)圈具有阻擋面;至少一個(gè)第二支撐座可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于活動(dòng)槽,并具有落入活動(dòng)槽內(nèi)的展開(kāi)狀態(tài)和翻轉(zhuǎn)至傘盤(pán)座下方的折疊狀態(tài),第二支...
技術(shù)分類(lèi)
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