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攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
  • 本實(shí)用新型提供一種用于紅外星敏感器的雜光抑制裝置，包括同一光軸設(shè)置的第一外遮光罩，第二外遮光罩，光學(xué)組件，第一內(nèi)遮光罩和第二內(nèi)遮光罩，第二外遮光罩設(shè)置在第一外遮光罩的一端，光學(xué)組件包括設(shè)置在第二外遮光罩內(nèi)的次反射鏡和主反射鏡，主反射鏡設(shè)置在...
  • 本發(fā)明涉及微型光學(xué)鏡頭自動對焦及防抖的驅(qū)動裝置，具有支撐模塊及適合鏡頭安裝組設(shè)的運(yùn)動部件，支撐模塊嵌設(shè)帶有傳感器的FPC電路板，傳感器電性連接微型光學(xué)鏡頭的控制系統(tǒng)；該運(yùn)動部件通過懸掛系統(tǒng)組裝在支撐模塊上，實(shí)現(xiàn)運(yùn)動部件沿鏡頭的光軸運(yùn)動；還包...
  • 本實(shí)用新型提供了一種涂膠顯影設(shè)備，其特征在于，包括晶圓裝載裝置、濕氣清除裝置和工藝裝置；所述晶圓裝載裝置與所述濕氣清除裝置連接，所述晶圓裝載裝置用于裝載晶圓，所述濕氣清除裝置用于清除晶圓上的濕氣；所述工藝裝置與所述濕氣清除裝置連接，且與所述...
  • 本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，提供一種對準(zhǔn)傳感器光學(xué)模塊及對準(zhǔn)傳感器，該對準(zhǔn)傳感器光學(xué)模塊包括照明透鏡、偏振分束器、物鏡組、干涉儀和輸出透鏡，還包括角度可調(diào)的第一反射鏡和第二反射鏡。照明光依次經(jīng)照明透鏡、第一反射鏡、偏振分束器以及物鏡組入射至...
  • 本發(fā)明公開了一種直線運(yùn)動蓄能機(jī)構(gòu)，其包括殼體，殼體上設(shè)有絲桿、絲桿螺母、彈性件、驅(qū)動機(jī)構(gòu)、鎖止機(jī)構(gòu)，絲桿螺母螺接在絲桿上，彈性件與絲桿連接，驅(qū)動機(jī)構(gòu)與絲桿螺母連接；蓄能時(shí)，驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動絲桿螺母轉(zhuǎn)動，鎖止機(jī)構(gòu)限制絲桿轉(zhuǎn)動，絲桿螺母帶動絲桿做直...
  • 本發(fā)明涉及室內(nèi)布景展示設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于室內(nèi)設(shè)計(jì)的可變布景展示裝置，包括有支撐架和安裝于支撐架上的電動升降架，支撐架與電動升降架上均滑動式插接有導(dǎo)向板，下方導(dǎo)向板內(nèi)側(cè)卡接有投影儀。本發(fā)明通過拉動伸縮活動桿使得幕布向右移動展開，啟...
  • 本申請實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及光刻方法，涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括：介質(zhì)膜和透明襯底；介質(zhì)膜沉積于透明襯底的上表面；介質(zhì)膜的厚度與光線入射角度、光線波長和介質(zhì)膜的反射率相關(guān)；介質(zhì)膜用于增強(qiáng)透明襯底對光線的反射強(qiáng)度。由此，本申請通...
  • 本發(fā)明提供了陣列基板母板及其切割方法、顯示裝置，陣列基板母板的固定區(qū)內(nèi)的至少一側(cè)設(shè)有固定綁定部，還包括連接于固定綁定部的待切割部，待切割部中遠(yuǎn)離固定綁定部的至少部分用于被切除，待切割部的長度大于或等于118微米，從而避免采用不同規(guī)格的光罩制...
  • 本申請公開了一種投影機(jī)，該投影機(jī)包括多色光源、光機(jī)和投影鏡頭，以及包括光源驅(qū)動器和光傳感器，光源驅(qū)動器連接光傳感器和多色光源；光機(jī)包括照明光路，照明光路包括反射鏡，反射鏡用于將多色光源發(fā)射的部分光束透射至光傳感器；光傳感器用于檢測光束中每種...
  • 本發(fā)明涉及一種透明根系栽培容器拍照自動線，包括行走導(dǎo)軌、運(yùn)送小車、兩排成組的拍照工位組、透明根系栽培容器緩存機(jī)構(gòu)；行走導(dǎo)軌設(shè)在兩排成組的拍照工位組之間，行走導(dǎo)軌一端延伸至兩個(gè)豎向支架與橫向支架形成的區(qū)域內(nèi)，運(yùn)送小車沿行走導(dǎo)軌在拍照工位組與透...
  • 本公開涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及掩膜板及其制備方法、顯示面板及其制備方法、顯示裝置，其中，該掩膜板包括：支撐層；圖形層，包括多個(gè)鏤空結(jié)構(gòu)，且位于支撐層的一側(cè)；第一保護(hù)層，位于支撐層背離所述圖形層的一側(cè)；第二保護(hù)層，位于圖形層背離支撐層的一側(cè)...
  • 一種光學(xué)鄰近修正方法、掩膜版制作及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，包括：提供第一目標(biāo)版圖，所述第一目標(biāo)版圖中包括第一目標(biāo)圖形和第二目標(biāo)圖形；獲取第一曝光圖像，所述第一曝光圖像中包括第一曝光圖形和第二曝光圖形；根據(jù)所述第一目標(biāo)版圖對所述第一曝光圖像進(jìn)行...
  • 本發(fā)明涉及抗蝕劑下層膜形成用組成物、抗蝕劑下層膜、抗蝕劑下層膜的制造方法、圖案形成方法、及半導(dǎo)體裝置的制造方法。本發(fā)明的課題為提供一種可形成會表現(xiàn)優(yōu)異的加工耐性及優(yōu)異的氣體穿透性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組成物。其解決手段為一種抗蝕...
  • 本發(fā)明涉及集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是涉及一種掩膜工藝校正方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)，通過接收原始掩膜圖案及目標(biāo)仿真圖案；將所述原始掩膜圖案轉(zhuǎn)換為多個(gè)邊緣段圍成的圖形；通過預(yù)訓(xùn)練的校正集約模型對所述原始掩膜圖案進(jìn)行仿真模擬，得到各個(gè)所述邊緣段對...
  • 一種用于在光刻設(shè)備中使用的表膜，所述表膜包括：隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及保護(hù)部分，所述保護(hù)部分在所述隔膜的至少一側(cè)上位于所述第二部分處。一種用于形成用于在光刻設(shè)備中使用的表膜的方法，所述方法包括：提供隔膜，所述隔膜具有第一部...
  • 本申請?zhí)峁┮环N投影設(shè)備，涉及光學(xué)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該投影設(shè)備既可以實(shí)現(xiàn)良好的密封性，又可以提升散熱效率。該投影設(shè)備包括：光機(jī)殼體、光機(jī)組件和第一散熱組件；其中，光機(jī)殼體圍合形成封閉腔，并具有第一開口，第一開口將封閉腔與光機(jī)殼體外部連通；光機(jī)組件...
  • 本發(fā)明提供一種基于自由形式光源的快速制定ADI的方法,取光源文件，光源文件為在一個(gè)半徑為1的圓內(nèi)，每個(gè)取樣點(diǎn)均記錄一個(gè)光強(qiáng)值，每個(gè)取樣點(diǎn)均記錄其x坐標(biāo)、y坐標(biāo)和光強(qiáng)；根據(jù)每個(gè)取樣點(diǎn)的光強(qiáng)分解得到X方向的第一光強(qiáng)和Y方向的第二光強(qiáng)；之后計(jì)算第...
  • 一種感測對準(zhǔn)標(biāo)記的設(shè)備和方法，其中基于自參考干涉儀的傳感器輸出所述對準(zhǔn)標(biāo)記的靜止圖像，并且相機(jī)裝置用以捕獲如由所述傳感器輸出的所述圖像，并且檢測器用以如由從所述傳感器輸出的所述圖像獲得有關(guān)所述對準(zhǔn)標(biāo)記的相位信息。
  • 本申請?zhí)峁┮环N黑色顏料液及其制備方法、光刻膠組合物、感光玻璃和液晶顯示裝置，涉及液晶顯示裝置領(lǐng)域。該黑色顏料液的原料包括改性炭黑；改性炭黑包括炭黑和包覆炭黑的包覆層；包覆層包括多巴胺聚合物。本申請?zhí)峁┑暮谏伭弦海杩垢咔覂Υ娣€(wěn)定性優(yōu)異。
  • 本發(fā)明的課題是提供抗蝕劑特性和對金屬輥的滑動性優(yōu)異，并且具有優(yōu)異的高溫層壓加工適應(yīng)性的干膜抗蝕劑用疊層聚酯膜。解決手段是一種干膜抗蝕劑用疊層聚酯膜，是表面A、表面B的偏度Ssk滿足Ssk?A＞Ssk?B的膜，其由表面A、表面B滿足以下(1)...
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