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攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
  • 本發明涉及打印設備技術領域，提供一種顯影盒，可拆卸安裝于圖像形成裝置，包括：外殼，外殼內設有用于儲存調色劑的儲存腔以及供調色劑輸送至外部的出口；顯影輥，設于外殼內并位于出口的內側；攪拌構件，設于儲存腔內，用于攪拌儲存腔內的調色劑；散粉構件，...
  • 本發明公開了圖像形成裝置及控制方法。實施方式的圖像形成裝置具有轉印部、加熱部以及控制部。轉印部將表示圖像的調色劑像轉印至片材上。加熱部設置在比所述轉印部更靠所述片材的輸送方向下游的位置，對所述片材進行加熱的多個加熱部件設置在與輸送方向正交的...
  • 本發明提供調色劑輸送裝置和具備該調色劑輸送裝置的顯影裝置以及圖像形成裝置。所述調色劑輸送裝置包括垂直輸送部、水平輸送部、輸送構件和松散構件。垂直輸送部使從連接于主體側輸送通道的送入口送入的調色劑或包含調色劑的顯影劑垂直落下并輸送。水平輸送部...
  • 本申請涉及無線通信裝置、圖像形成裝置及圖像形成裝置的控制方法。一實施方式所涉及的無線通信裝置具備通信接口和處理器。通信接口與指示動作的客戶端及其他無線通信裝置進行無線通信。處理器基于其他無線通信裝置的無線通信功能的有效無效、同時連接臺數以及...
  • 本發明公開了一種打印方法及打印機。本發明通過配置感光鼓和LED模塊，LED模塊包括多個沿感光鼓軸線方向呈直線排列的LED光源，相鄰LED光源之間具有間隙，其打印工作原理為，在利用LED模塊對感光鼓進行曝光時，通過使LED模塊的LED光源形成...
  • 本實用新型提供一種用于紅外星敏感器的雜光抑制裝置，包括同一光軸設置的第一外遮光罩，第二外遮光罩，光學組件，第一內遮光罩和第二內遮光罩，第二外遮光罩設置在第一外遮光罩的一端，光學組件包括設置在第二外遮光罩內的次反射鏡和主反射鏡，主反射鏡設置在...
  • 本發明涉及微型光學鏡頭自動對焦及防抖的驅動裝置，具有支撐模塊及適合鏡頭安裝組設的運動部件，支撐模塊嵌設帶有傳感器的FPC電路板，傳感器電性連接微型光學鏡頭的控制系統；該運動部件通過懸掛系統組裝在支撐模塊上，實現運動部件沿鏡頭的光軸運動；還包...
  • 本實用新型提供了一種涂膠顯影設備，其特征在于，包括晶圓裝載裝置、濕氣清除裝置和工藝裝置；所述晶圓裝載裝置與所述濕氣清除裝置連接，所述晶圓裝載裝置用于裝載晶圓，所述濕氣清除裝置用于清除晶圓上的濕氣；所述工藝裝置與所述濕氣清除裝置連接，且與所述...
  • 本發明涉及光學系統技術領域，提供一種對準傳感器光學模塊及對準傳感器，該對準傳感器光學模塊包括照明透鏡、偏振分束器、物鏡組、干涉儀和輸出透鏡，還包括角度可調的第一反射鏡和第二反射鏡。照明光依次經照明透鏡、第一反射鏡、偏振分束器以及物鏡組入射至...
  • 本發明公開了一種直線運動蓄能機構，其包括殼體，殼體上設有絲桿、絲桿螺母、彈性件、驅動機構、鎖止機構，絲桿螺母螺接在絲桿上，彈性件與絲桿連接，驅動機構與絲桿螺母連接；蓄能時，驅動機構驅動絲桿螺母轉動，鎖止機構限制絲桿轉動，絲桿螺母帶動絲桿做直...
  • 本發明提供了陣列基板母板及其切割方法、顯示裝置，陣列基板母板的固定區內的至少一側設有固定綁定部，還包括連接于固定綁定部的待切割部，待切割部中遠離固定綁定部的至少部分用于被切除，待切割部的長度大于或等于118微米，從而避免采用不同規格的光罩制...
  • 本申請公開了一種投影機，該投影機包括多色光源、光機和投影鏡頭，以及包括光源驅動器和光傳感器，光源驅動器連接光傳感器和多色光源；光機包括照明光路，照明光路包括反射鏡，反射鏡用于將多色光源發射的部分光束透射至光傳感器；光傳感器用于檢測光束中每種...
  • 本發明涉及一種透明根系栽培容器拍照自動線，包括行走導軌、運送小車、兩排成組的拍照工位組、透明根系栽培容器緩存機構；行走導軌設在兩排成組的拍照工位組之間，行走導軌一端延伸至兩個豎向支架與橫向支架形成的區域內，運送小車沿行走導軌在拍照工位組與透...
  • 本發明涉及室內布景展示設備技術領域，尤其涉及一種用于室內設計的可變布景展示裝置，包括有支撐架和安裝于支撐架上的電動升降架，支撐架與電動升降架上均滑動式插接有導向板，下方導向板內側卡接有投影儀。本發明通過拉動伸縮活動桿使得幕布向右移動展開，啟...
  • 一種用于在光刻設備中使用的表膜，所述表膜包括：隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及保護部分，所述保護部分在所述隔膜的至少一側上位于所述第二部分處。一種用于形成用于在光刻設備中使用的表膜的方法，所述方法包括：提供隔膜，所述隔膜具有第一部...
  • 本申請實施例提供了一種半導體結構及光刻方法，涉及光刻技術領域。該半導體結構包括：介質膜和透明襯底；介質膜沉積于透明襯底的上表面；介質膜的厚度與光線入射角度、光線波長和介質膜的反射率相關；介質膜用于增強透明襯底對光線的反射強度。由此，本申請通...
  • 本公開涉及顯示技術領域，具體涉及掩膜板及其制備方法、顯示面板及其制備方法、顯示裝置，其中，該掩膜板包括：支撐層；圖形層，包括多個鏤空結構，且位于支撐層的一側；第一保護層，位于支撐層背離所述圖形層的一側；第二保護層，位于圖形層背離支撐層的一側...
  • 一種光學鄰近修正方法、掩膜版制作及半導體結構的形成方法，包括：提供第一目標版圖，所述第一目標版圖中包括第一目標圖形和第二目標圖形；獲取第一曝光圖像，所述第一曝光圖像中包括第一曝光圖形和第二曝光圖形；根據所述第一目標版圖對所述第一曝光圖像進行...
  • 本發明涉及抗蝕劑下層膜形成用組成物、抗蝕劑下層膜、抗蝕劑下層膜的制造方法、圖案形成方法、及半導體裝置的制造方法。本發明的課題為提供一種可形成會表現優異的加工耐性及優異的氣體穿透性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組成物。其解決手段為一種抗蝕...
  • 本發明涉及集成電路生產領域，特別是涉及一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質，通過接收原始掩膜圖案及目標仿真圖案；將所述原始掩膜圖案轉換為多個邊緣段圍成的圖形；通過預訓練的校正集約模型對所述原始掩膜圖案進行仿真模擬，得到各個所述邊緣段對...
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