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攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
  • 本發(fā)明公開了一種使用漸進式曝光機的新型掩膜制作方法及系統(tǒng)，方法包括提供一種使用漸進式曝光機的新型掩膜制作系統(tǒng)，包括漸進式曝光機、主感光性間隔件及干涉感光性間隔件；漸進式曝光機通過主感光性間隔件向待曝光掩膜版的第一位置進行全曝光，獲取第一光刻...
  • 本申請?zhí)峁┮环N表面等離子體光刻成像結(jié)構(gòu)、方法及計算機可讀介質(zhì)，包括：反射層、光刻膠、第一諧振腔結(jié)構(gòu)和掩模層；反射層設(shè)置在待刻蝕結(jié)構(gòu)一側(cè)，光刻膠設(shè)置在反射層遠離待刻蝕結(jié)構(gòu)的一側(cè)，第一諧振腔結(jié)構(gòu)設(shè)置在光刻膠遠離待刻蝕結(jié)構(gòu)的一側(cè)；掩模層設(shè)置在第一...
  • 本發(fā)明公開了一種基于低電壓冰膠電子束曝光的三維灰度結(jié)構(gòu)及三維微納結(jié)構(gòu)的制造方法，包括：在加工面上沉積一層冰層；然后利用低能量電子束分層曝光，去除每層特定部分的冰層，最終形成帶有特定灰度圖案的三維灰度冰雕結(jié)構(gòu)；可選擇的在三維冰雕結(jié)構(gòu)采用物理氣...
  • 本申請?zhí)峁┮环N光刻機臺間套刻精度差異的預(yù)補償方法，包括：步驟一，根據(jù)當(dāng)前批次晶圓的當(dāng)前層和前一層的材料屬性和功能屬性，獲取相對該前一層轉(zhuǎn)機對該當(dāng)前層實施光刻的套刻精度歷史數(shù)據(jù)；步驟二，在所述歷史數(shù)據(jù)中扣除相對該前一層用同一光刻機對該當(dāng)前層實...
  • 本發(fā)明屬于太陽能熱發(fā)電技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種大功率等級槽塔耦合太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，熱能儲存裝置包括低溫熔鹽儲罐、中溫熔鹽儲罐和高溫熔鹽儲罐；槽式集熱器的集熱管進口和出口分別與低溫熔鹽儲罐的出口和中溫熔鹽儲罐的進口連接；塔式集熱器的集熱塔進口和出口...
  • 本實用新型屬于晶圓制造技術(shù)領(lǐng)域，具體提供了一種轉(zhuǎn)盤式光刻機的CCD調(diào)整機構(gòu)系統(tǒng)，包括底板，底板上設(shè)置有兩組X方向固定導(dǎo)軌，X方向固定導(dǎo)軌上設(shè)置有兩個對稱的CCD調(diào)整機構(gòu)，每個CCD調(diào)整機構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)一個CCD組件的X、Y方向調(diào)整，每個CCD調(diào)...
  • 本實用新型公開了一種投影儀幕布調(diào)節(jié)裝置，包括投影布盒體，投影布盒體的內(nèi)部設(shè)置有投影布布體，投影布盒體設(shè)置有用于適應(yīng)投影布布體所處位置的調(diào)節(jié)機構(gòu)，調(diào)節(jié)機構(gòu)包括調(diào)節(jié)框，調(diào)節(jié)框的內(nèi)部滑動設(shè)置有調(diào)節(jié)板，調(diào)節(jié)板位于投影布盒體上，調(diào)節(jié)板用于調(diào)整投影布盒...
  • 本發(fā)明的實施方式提供了一種相機致動器，其包括：殼體；第一透鏡組件，該第一透鏡組件相對于殼體沿光軸方向移動；滾珠部分，該滾珠部分設(shè)置在第一透鏡組件中；以及驅(qū)動部分，該驅(qū)動部分使第一透鏡組件移動，其中：第一透鏡組件包括容納部分和導(dǎo)引部分，容納部...
  • 本發(fā)明涉及抗蝕劑下層膜形成用組成物、抗蝕劑下層膜、抗蝕劑下層膜的制造方法、圖案形成方法、及半導(dǎo)體裝置的制造方法。本發(fā)明的課題為提供一種可形成會表現(xiàn)優(yōu)異的加工耐性及優(yōu)異的氣體穿透性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組成物。本發(fā)明的解決手段為一...
  • 本發(fā)明屬于軌道交通技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種地鐵站臺門系統(tǒng)的控制及通訊裝置，包括：四個控制器以及分別與各個控制器通訊連接的交換機以形成環(huán)形網(wǎng)絡(luò)；裝置被配置有控制命令及通訊命令，控制命令表示為通過控制器執(zhí)行信號系統(tǒng)的指令而向站臺門控裝置發(fā)送開閉門指...
  • 本發(fā)明涉及一種翼身融合布局飛機地面運動綜合系統(tǒng)及控制方法，包括飛行綜合控制系統(tǒng)、地面運動綜合控制面板、指令采集和備份單元、綜合控制計算機單元、作動器伺服控制單元、發(fā)動機控制器、1553B總線和429總線；飛行綜合控制系統(tǒng)與指令采集和備份單元...
  • 本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于FIB光刻技術(shù)中的實時檢測設(shè)備，包括用于離子束光刻的N把離子槍和用于離子束光刻之后的檢測以保證光刻質(zhì)量的N把電子槍一，N≥1，其特征在于，離子槍與電子槍一分別控制，同步工作。本發(fā)明具有如下有益效果：電子與離子槍相隔一定...
  • 本發(fā)明公開了柔性解耦結(jié)構(gòu)、補償組件及控制方法、運動模塊及光刻機，屬于光刻設(shè)備領(lǐng)域。該柔性解耦結(jié)構(gòu)包括；至少兩個分段式彈性件，其剛度能夠調(diào)整，其包括依次連接的第一簧片、連接板和第二簧片，分段式彈性件被配置為能對運動組件進行解耦或行程補償；平行...
  • 本發(fā)明涉及一種用于ArF浸沒式光刻膠頂層涂層的組合物，所述的組合物包括聚合物I、聚合物II、光致產(chǎn)酸劑和電子級溶劑，所述的聚合物I和聚合物II結(jié)構(gòu)式如下：
  • 本發(fā)明提供一種半色調(diào)掩膜板，所述半色調(diào)掩膜板包括金屬遮光圖形，所述金屬遮光圖形包括多個圖形部，所述金屬遮光圖形還包括靜電釋放導(dǎo)線，至少一對相鄰的圖形部之間連接有所述靜電釋放導(dǎo)線，對于至少一對被所述靜電釋放導(dǎo)線電連接的圖形部而言，至少其中一個...
  • 本發(fā)明公開了一種光刻設(shè)備，包括激光輸出裝置、光路選擇裝置、檢測模塊和光刻模塊，所述激光輸出裝置發(fā)射激光至所述光路選擇裝置，所述光路選擇裝置選擇將激光反射至所述光刻模塊或所述檢測模塊。本發(fā)明還公開了一種光刻方法，利用上述光刻設(shè)備進行光刻。通過...
  • 一種投影屏幕(1)、制作方法及投影系統(tǒng)，投影屏幕(1)包括擴散層(11)、菲涅爾結(jié)構(gòu)層(12)和位于菲涅爾結(jié)構(gòu)層(12)的菲涅爾結(jié)構(gòu)(121)的至少部分表面上的波長選擇反射層(F)，波長選擇反射層(F)可以對投影設(shè)備(2)出射的投影光線選擇...
  • 本實用新型公開了一種折疊柔光箱，包括傘盤座，第一支撐座，第二支撐座和鎖止結(jié)構(gòu)；傘盤座具有擴口槽及活動槽，活動槽在傘盤座的內(nèi)圈具有阻擋面；至少一個第二支撐座可轉(zhuǎn)動地連接于活動槽，并具有落入活動槽內(nèi)的展開狀態(tài)和翻轉(zhuǎn)至傘盤座下方的折疊狀態(tài)，第二支...
  • 本實用新型公開了一種用于柔光箱卡盤的彈性支撐結(jié)構(gòu)，柔光箱卡盤活動連接有支撐桿，彈性支撐結(jié)構(gòu)至少包括彈性復(fù)位件，該彈性復(fù)位件具有固定端，第一彈性作用端，及可與支撐桿相抵的第二彈性作用端；支撐桿可相對柔光箱卡盤活動至展開狀態(tài)或收攏狀態(tài)，第二彈性...
  • 本發(fā)明提供一種優(yōu)化光刻膠厚度的方法，包括：在半導(dǎo)體襯底上形成第一光刻膠層，并使得位于不同曝光區(qū)域的第一光刻膠層的厚度不同，接著在各曝光區(qū)域形成掩膜圖形，再測量各曝光區(qū)域中的相同掩膜圖形之間的關(guān)鍵尺寸，根據(jù)關(guān)鍵尺寸以及對應(yīng)的光刻膠厚度制作光刻...
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