恭喜朗姆研究公司普爾凱特·阿加瓦爾獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利用于調節膜均勻性的方法和設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112585720B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980055085.4，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權用于調節膜均勻性的方法和設備是由普爾凱特·阿加瓦爾;阿德里安·拉沃伊;普魯肖塔姆·庫馬爾設計研發完成，并于2019-08-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于調節膜均勻性的方法和設備在說明書摘要公布了：提供了一種用于處理襯底的方法，其中所述襯底位于處理室內的噴頭下方。在所述襯底上沉積沉積層，其中至少一種沉積氣體通過所述噴頭提供。在所述沉積所述沉積層的期間，使第二清掃氣體從所述處理室內的所述噴頭外的位置流入，從而在所述噴頭的外緣周圍形成流動簾幕，其中所述第二清掃氣體包含至少一種成分氣體。在所述沉積所述沉積層的期間，隨著時間的推移改變所述至少一種成分氣體的分壓，其中所述沉積所述沉積層具有不均勻性，其中在所述沉積所述沉積層的期間，所述改變所述分壓隨著時間的推移改變所述不均勻性。
本發明授權用于調節膜均勻性的方法和設備在權利要求書中公布了：1.一種用于處理襯底的方法，其中所述襯底位于處理室內的噴頭下方，所述方法包含：在所述處理室中的所述噴頭下的所述襯底上沉積沉積層，其中至少一種沉積氣體通過所述噴頭提供；在所述沉積所述沉積層的期間，使第二清掃氣體從所述處理室內的所述噴頭外的位置流入，而在所述噴頭的外緣周圍形成流動簾幕，其中所述第二清掃氣體包含至少一種成分氣體，并且所述噴頭是傾斜的以在所述第二清掃氣體的流動中產生方位角不均勻性；在所述沉積所述沉積層的期間，隨著時間的推移改變所述至少一種成分氣體的分壓，其中所述沉積所述沉積層具有不均勻性，其中在所述沉積所述沉積層的期間，所述改變所述分壓隨著時間的推移改變所述不均勻性；以及在所述處理室中的所述噴頭下方提供不均勻的回蝕工藝，其中所述不均勻的回蝕工藝與所述沉積所述沉積層的所述不均勻性互補。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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