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龍圖騰網(wǎng)恭喜臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN109801966B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201811036921.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D30/62；該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)是由黃士文;柯忠廷;柯宏憲;林嘉慧;黃泰鈞設(shè)計研發(fā)完成，并于2018-09-06向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在說明書摘要公布了：提供半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)與其形成方法。半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括柵極結(jié)構(gòu)、柵極間隔物、源極漏極結(jié)構(gòu)、接點結(jié)構(gòu)、粘著層、與阻障層。柵極結(jié)構(gòu)位于鰭狀結(jié)構(gòu)上。柵極間隔物位于鰭狀結(jié)構(gòu)上與柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁表面上。源極漏極結(jié)構(gòu)位于鰭狀結(jié)構(gòu)中并與柵極間隔物相鄰。接點結(jié)構(gòu)位于源極漏極結(jié)構(gòu)上。粘著層覆蓋接點結(jié)構(gòu)的下表面與側(cè)壁表面。阻障層圍繞接點結(jié)構(gòu)的側(cè)壁表面。粘著層的下表面暴露至阻障層。

本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括：一柵極結(jié)構(gòu)，位于一鰭狀結(jié)構(gòu)上；一柵極間隔物，位于該鰭狀結(jié)構(gòu)上與該柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁表面上；一源極漏極結(jié)構(gòu)，位于該鰭狀結(jié)構(gòu)中并與該柵極間隔物相鄰；一接點結(jié)構(gòu)，位于該源極漏極結(jié)構(gòu)上；一粘著層，覆蓋該接點結(jié)構(gòu)的下表面與側(cè)壁表面，其中該粘著層的一部分埋置于該源極漏極結(jié)構(gòu)中，其中該粘著層的一延伸部分直接接觸該柵極結(jié)構(gòu)；以及一阻障層，圍繞該接點結(jié)構(gòu)的側(cè)壁表面，其中該阻障層的上表面與該柵極結(jié)構(gòu)的上表面齊平。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹市；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。