恭喜三星顯示有限公司李鐘奫獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜三星顯示有限公司申請的專利掩模框架組件獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN111244328B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:201911141365.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10K71/00;該發(fā)明授權(quán)掩模框架組件是由李鐘奫;金宗范設(shè)計研發(fā)完成,并于2019-11-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本掩模框架組件在說明書摘要公布了:提供了一種掩模框架組件。所述掩模框架組件包括:平臺,提供有具有頂表面的座部分;框架,位于座部分上,并具有與座部分的頂表面接觸的底表面;以及掩模,位于框架上。座部分的頂表面和框架的底表面中的至少一個是不平坦的表面。
本發(fā)明授權(quán)掩模框架組件在權(quán)利要求書中公布了:1.一種掩模框架組件,所述掩模框架組件包括:平臺,包括具有頂表面的座部分;框架,位于所述座部分上,并且具有與所述座部分的所述頂表面接觸的底表面,所述座部分的所述頂表面和所述框架的所述底表面中的至少一個是不平坦的表面,其中,所述框架包括第一結(jié)合槽和第二結(jié)合槽;掩模,位于所述框架上;以及桿部,位于所述框架與所述掩模之間,并且包括在第一方向上延伸且固定到所述第一結(jié)合槽中的第一桿和在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸且固定到所述第二結(jié)合槽中的第二桿,其中,所述不平坦的表面是激光織構(gòu)表面且是等離子體滲氮表面,使得所述座部分與所述框架之間的摩擦力大于或等于所述桿部和所述掩模的熱變形力。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人三星顯示有限公司,其通訊地址為:韓國京畿道龍仁市;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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