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龍圖騰網(wǎng)恭喜朗姆研究公司申請的專利用于蝕刻反應(yīng)器的渦輪分子泵和陰極組件獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113574649B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080021549.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)用于蝕刻反應(yīng)器的渦輪分子泵和陰極組件是由索斯藤·利爾;馬里施·格雷戈爾設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-03-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于蝕刻反應(yīng)器的渦輪分子泵和陰極組件在說明書摘要公布了：提供了一種蝕刻半導(dǎo)體襯底的處理室和方法。該處理室是對稱的，其中用于保持半導(dǎo)體襯底的臺架的卡盤和桿部的中心線與位于泵的芯部中的通道的中心線以及與氣體端口的中心線對準，該泵用于將處理室抽氣，而氣體通過該氣體端口而被引導(dǎo)至處理室。桿部延伸穿過通道，且螺旋溝槽被形成在通道中且僅形成在桿部或芯部的內(nèi)表面中的一者中，以提供泵抽作用，以抵銷氣體在介于桿部與芯部之間的間隙內(nèi)以中間且粘性流動的狀態(tài)從泵的排氣口進行的回流。

本發(fā)明授權(quán)用于蝕刻反應(yīng)器的渦輪分子泵和陰極組件在權(quán)利要求書中公布了：1.一種處理室系統(tǒng)，其包括：處理室，其包括：氣體端口，其用于將氣體引導(dǎo)至所述處理室的上部區(qū)域中；以及臺架，其設(shè)置在所述處理室內(nèi)、所述氣體端口下；以及泵，其配置在所述處理室的下部區(qū)域處以將所述氣體從所述處理室移除，所述泵包括芯部，所述芯部具有設(shè)置在其中的通道，其中所述臺架包括被配置成保持襯底的卡盤和從所述卡盤延伸的桿部，所述桿部被配置成穿過所述芯部中的所述通道，其中：所述處理室的所述下部區(qū)域具有開口，所述開口被配置成與所述通道對準并且容納所述桿部，以及一或多個螺旋溝槽形成在與所述芯部的內(nèi)表面相對的所述桿部中，每個螺旋溝槽具有提供泵抽作用以抵銷所述氣體在介于所述桿部與所述芯部之間的間隙內(nèi)從所述泵的排氣口至所述處理室的回流的尺寸。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。