恭喜應用材料公司S·S·羅伊獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利無襯墊連續非晶金屬膜獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112640086B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980057396.4，技術領域涉及：H01L21/768；該發明授權無襯墊連續非晶金屬膜是由S·S·羅伊;巫勇;S·岡迪科塔設計研發完成，并于2019-10-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本無襯墊連續非晶金屬膜在說明書摘要公布了：本文描述的實施例總體上涉及沉積薄膜的方法，并且更具體地，涉及沉積金屬薄膜。本文的方法提供了無成核轉化nucleationfreeconversion；NFC方法，此方法涉及在介電層之上形成非晶硅層，并執行NFC工藝，所述NFC工藝用于將非晶硅層轉化成金屬薄膜。在一些實施例中，多次執行NFC工藝，直到所得的薄金屬膜是連續的。在薄金屬膜之上形成塊狀金屬。
本發明授權無襯墊連續非晶金屬膜在權利要求書中公布了：1.一種填充形成在基板的表面上的特征的方法，包含：在形成在所述基板的所述表面上的所述特征上形成連續的金屬層，其中形成所述連續的金屬層的工藝包含：a在所述特征的暴露表面上形成非晶硅層；b將所形成的非晶硅層轉化成金屬薄膜，所述金屬薄膜是不連續的，其中轉化所述非晶硅層的所述工藝包含將所述非晶硅層暴露于含金屬的前驅物，直到所述非晶硅層中的基本上所有硅原子被替換為在所述含金屬的前驅物中發現的一個或多個金屬原子，其中所述含金屬的前驅物包括鎢、鉭、鉬或鈦；以及c重復a和b至少兩次，直到在所述特征的所述表面上形成含有所述金屬原子的連續薄膜并且所述連續薄膜在1埃和200埃之間，并且其中所述工藝在5托和20托之間的壓力下執行；以及在所形成的連續薄膜之上形成塊狀金屬層。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號