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龍圖騰網恭喜弗薩姆材料美國有限責任公司申請的專利用于沉積含硅膜的有機氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114318291B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111612772.7，技術領域涉及：C07F7/02；該發明授權用于沉積含硅膜的有機氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷是由蕭滿超;M·R·麥克唐納;雷新建;王美良設計研發完成，并于2018-02-08向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于沉積含硅膜的有機氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷在說明書摘要公布了：本文公開了具有至少兩個硅原子和兩個氧原子以及有機氨基基團的氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷以及用于制備所述低聚硅氧烷的方法。本文還公開了使用所述有機氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷沉積含硅和氧的膜的方法。

本發明授權用于沉積含硅膜的有機氨基官能化線性和環狀低聚硅氧烷在權利要求書中公布了：1.一種組合物，其包含選自式C和D的至少一種有機氨基官能化低聚硅氧烷化合物： 其中，R1選自C1至C10直鏈烷基、C3至C10支鏈烷基、C3至C10環狀烷基、C3至C10雜環基、C3至C10烯基、C3至C10炔基和C4至C10芳基；R2選自氫、C1至C10直鏈烷基、C3至C10支鏈烷基、C3至C10環狀烷基、C3至C10雜環基、C3至C10烯基、C3至C10炔基和C4至C10芳基，其中R1和R2連接形成環狀環結構或不連接形成環狀環結構；R3-10各自獨立地選自氫、C1至C10直鏈烷基、C3至C10支鏈烷基、C3至C10環狀烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基和C4至C10芳基，并且R3-10不全是氫；和X選自C1至C10直鏈烷基、C3至C10支鏈烷基、C3至C10環狀烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基、C4至C10芳基、C1至C10酰基、H、Cl、Br、I、F、C2至C12羧酸酯基、C1至C10直鏈或支鏈烷氧基、三甲基甲硅烷氧基、二甲基甲硅烷氧基、甲基甲硅烷氧基和甲硅烷氧基，其中R1和X連接形成環狀環或不連接形成環狀環，其中如果在式C中R1-8全部是甲基，則X不可以是三甲基甲硅烷氧基，并且其中如果在式D中R1-10全部是甲基，則X不可以是甲基或二甲基氨基；其中所述組合物還包含載氣或溶劑。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人弗薩姆材料美國有限責任公司，其通訊地址為：美國亞利桑那州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。