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龍圖騰網(wǎng)恭喜株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)申請(qǐng)的專利基板處理方法以及基板處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111489955B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201911395272.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)基板處理方法以及基板處理裝置是由奧谷學(xué);大須賀勤;東克榮;阿部博史;吉原直彥設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-12-30向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基板處理方法以及基板處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種基板處理方法以及基板處理裝置，在基板處理中，向被保持為水平狀態(tài)的基板9的上表面91供給第一處理液，形成覆蓋整個(gè)上表面91的第一處理液的液膜81。另外，對(duì)基板9進(jìn)行加熱，在上表面91上的第一處理液的液膜81與上表面91之間形成第一處理液的蒸氣層82。然后，通過向基板9的上表面91供給第二處理液，從上表面91去除第一處理液的液膜81。由此，能夠?qū)㈦S著蒸氣層82的形成而進(jìn)入第一處理液的液膜81的異物89從基板9的上表面91合適地去除。

本發(fā)明授權(quán)基板處理方法以及基板處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理方法，對(duì)基板進(jìn)行處理，其中，所述基板處理方法具有：a工序，向被保持為水平狀態(tài)的基板的上表面供給第一處理液，形成覆蓋所述基板的整個(gè)上表面的所述第一處理液的液膜；b工序，對(duì)所述基板進(jìn)行加熱，在所述基板的上表面上的所述第一處理液的所述液膜與所述上表面之間形成所述第一處理液的蒸氣層；c工序，通過向所述基板的上表面供給第二處理液，從所述上表面去除所述第一處理液的所述液膜，并且，使所述蒸氣層消失，去除所述液膜中的異物。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)，其通訊地址為：日本京都府；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。