恭喜東京毅力科創株式會社茂山和基獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利基片處理系統中的輸送方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112397369B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010766400.9，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權基片處理系統中的輸送方法是由茂山和基;永關一也設計研發完成，并于2020-08-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片處理系統中的輸送方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種基片處理系統中的輸送方法。本發明的基片處理系統中的輸送方法包括托盤送入步驟、測量步驟、調節步驟、基片載置步驟和托盤送出步驟。在托盤送入步驟中，將能夠載置半導體基片和邊緣環的托盤送入設置有載置臺的載置室。在測量步驟中，測量載置于托盤的邊緣環的位置以獲取邊緣環的位置信息。在調節步驟中，基于所獲得的位置信息，調節半導體基片的位置。在基片載置步驟中，將位置調節后的半導體基片載置在托盤。在托盤送出步驟中，將載置有半導體基片和邊緣環的托盤從上述載置室送出。本發明能夠相對于邊緣環將半導體基片配置在正確的位置。
本發明授權基片處理系統中的輸送方法在權利要求書中公布了：1.一種基片處理系統中的輸送方法，其特征在于，包括：將能夠載置半導體基片和邊緣環的托盤送入設置有載置臺的載置室的托盤送入步驟，所述托盤包括導電性的托盤主體和形成于所述托盤主體的至少上表面的電介質膜；在所述載置室中，測量載置于所述托盤的所述邊緣環的位置來獲取所述邊緣環的位置信息的測量步驟；基于所述位置信息調節所述半導體基片的位置的調節步驟；將位置調節后的所述半導體基片送入所述載置室并載置在所述托盤的基片載置步驟；對所述托盤主體施加電壓以將所述半導體基片靜電吸附到所述托盤的吸附步驟；以及將載置有所述半導體基片和所述邊緣環的所述托盤從所述載置室輸送到處理裝置的托盤輸送步驟。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號