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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利等離子體處理方法和等離子體處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111725046B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010177559.7，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權等離子體處理方法和等離子體處理裝置是由酒井永典設計研發完成，并于2020-03-13向國家知識產權局提交的專利申請。

本等離子體處理方法和等離子體處理裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種等離子體處理方法和等離子體處理裝置，能夠高精度地判定等離子體處理裝置的內壁的狀態。使用了測定等離子體處理裝置內的等離子體發光強度的檢測器的等離子體處理方法包括以下工序：利用所述檢測器來檢測使用具有第一光軸的光測定出的第一等離子體發光強度，所述第一光軸是通過等離子體的生成區域后到達所述等離子體處理裝置的內壁的光軸；利用所述檢測器來檢測使用具有第二光軸的光測定出的第二等離子體發光強度，所述第二光軸是以不通過等離子體的生成區域的方式到達所述等離子體處理裝置的內壁的光軸；以及基于檢測出的所述第一等離子體發光強度與所述第二等離子體發光強度的差或比率，來判定所述等離子體處理裝置的內壁的狀態。

本發明授權等離子體處理方法和等離子體處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種等離子體處理方法，其利用等離子體處理裝置來執行，所述等離子體處理裝置具有：處理容器；載置臺，其配置于所述處理容器內；噴淋頭，其配置于所述載置臺的上方并且用于在所述處理容器內供給氣體；電源，其向所述載置臺或所述噴淋頭施加電力；以及檢測器，其測定所述處理容器內的等離子體發光強度，其中，利用所述噴淋頭供給的所述氣體以及所述電源施加的所述電力在沿所述處理容器的高度方向上的平面圖中的所述載置臺的上方或所述噴淋頭的下方生成等離子體，所述等離子體處理方法包括以下工序：開始所述等離子體處理裝置內的調節；利用所述檢測器來檢測第一等離子體發光強度，所述第一等離子體發光強度是在所述平面圖中沿第一方向通過所述等離子體并入射到所述檢測器上的第一光的強度；利用所述檢測器來檢測第二等離子體發光強度，所述第二等離子體發光強度是從所述等離子體處理裝置的內壁沿第二方向入射到所述檢測器上的第二光的強度，所述第二光在所述平面圖中與所述等離子體不重疊；基于檢測出的所述第一等離子體發光強度與所述第二等離子體發光強度的差或比率，來判定所述等離子體處理裝置的內壁的狀態；以及基于判定出的所述等離子體處理裝置的內壁的狀態來結束所述調節。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。