恭喜華為技術有限公司向顯嵩獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華為技術有限公司申請的專利深度測量方法、裝置和終端設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113470096B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010244769.3,技術領域涉及:G06T7/55;該發明授權深度測量方法、裝置和終端設備是由向顯嵩;江超;劉昆;王世通;鮑文設計研發完成,并于2020-03-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本深度測量方法、裝置和終端設備在說明書摘要公布了:本申請適用于測量技術領域,提供了一種深度測量方法、裝置和終端設備,所述方法包括:分別采集當前場景在至少兩種測量頻率下的深度圖像,所述至少兩種測量頻率至少包括第一頻率和第二頻率,所述第一頻率大于所述第二頻率,所述深度圖像包括多個像素點;確定每個像素點的多個候選融合深度,以及確定每個像素點的相對深度;根據目標像素點的多個候選融合深度和相對深度,識別所述目標像素點的融合深度,所述目標像素點為所述多個像素點中的任意一個;基于多個目標像素點的融合深度,生成所述當前場景的目標深度圖像。上述方法,在融合計算中考慮了像素點之間的前后關系變化,能夠有效保護場景的原有深度邏輯,提高深度測量的準確性。
本發明授權深度測量方法、裝置和終端設備在權利要求書中公布了:1.一種深度測量方法,其特征在于,包括:分別采集當前場景在至少兩種測量頻率下的深度圖像,所述至少兩種測量頻率至少包括第一頻率和第二頻率,所述第一頻率大于所述第二頻率,所述深度圖像包括多個像素點;分別獲取每個像素點在第一頻率下的第一深度值,根據所述第一深度值,計算所述每個像素點的多個候選融合深度,以及確定每個像素點的相對深度;分別確定目標像素點的每個候選融合深度與所述目標像素點的相對深度之間的相對位置變化量,將所述相對位置變化量最小值對應的候選融合深度識別為所述目標像素點的融合深度,所述目標像素點為所述多個像素點中的任意一個;基于多個目標像素點的融合深度,生成所述當前場景的目標深度圖像;其中,所述確定每個像素點的相對深度,包括:分別獲取每個像素點在第二頻率下的第二深度值,按照所述第二深度值由小到大的順序,對所述每個像素點進行排序,確定所述每個像素點在排序后的初始排序序號,將所述初始排序序號作為所述像素點的相對深度。
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