買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利相移型光掩模坯料和相移型光掩模獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN110955109B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201910914432.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/26；該發(fā)明授權(quán)相移型光掩模坯料和相移型光掩模是由高坂卓郎;小澤良兼設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-09-26向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本相移型光掩模坯料和相移型光掩模在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供相移型光掩模坯料和相移型光掩模。具體提供一種相移型光掩模坯料，其包括透明襯底和其上的相移膜，所述相移膜由單層或多層組成，所述單層或多層包括選自由過(guò)渡金屬、硅、氮和氧構(gòu)成的層和由硅、氮和氧構(gòu)成的層中的至少一層，對(duì)于波長(zhǎng)為200nm以下的光，所述相移膜的相移為150°至250°，透射率為60％至80％，所述相移膜的厚度為150nm以下，以及由過(guò)渡金屬、硅、氮和氧構(gòu)成的層的作為過(guò)渡金屬與過(guò)渡金屬和硅的總含量之比的含量原子比為0.03以下。

本發(fā)明授權(quán)相移型光掩模坯料和相移型光掩模在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種相移型光掩模坯料，包含襯底和其上的相移膜，所述相移膜由多層組成，所述多層包含：由過(guò)渡金屬、硅、氮和氧構(gòu)成的層和選自由過(guò)渡金屬、硅、氮和氧構(gòu)成的層以及由硅、氮和氧構(gòu)成的層中的至少一層，其中，對(duì)于波長(zhǎng)為200nm以下的光，所述相移膜的相移為150°至250°，透射率為60%至80%，厚度為150nm以下，并且，由過(guò)渡金屬、硅、氮和氧構(gòu)成的層的作為過(guò)渡金屬的含量與過(guò)渡金屬和硅的總含量之比為0.001至0.03，以原子比計(jì)。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。