恭喜朗姆研究公司卡蒂·林恩·納爾迪獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利使用碳氟化合物阻止層的形貌選擇性和區域選擇性ALD獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112041966B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980024270.7，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權使用碳氟化合物阻止層的形貌選擇性和區域選擇性ALD是由卡蒂·林恩·納爾迪;尼莉莎·德雷格設計研發完成，并于2019-03-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用碳氟化合物阻止層的形貌選擇性和區域選擇性ALD在說明書摘要公布了：一種用于選擇性沉積膜的方法包括：a將襯底布置在處理室中。所述襯底包括第一材料和第二材料，所述第一材料被暴露并且包含氧化硅SiOz，所述第二材料被暴露并且選自由硅Si和氮化硅SixNy組成的組，其中z、x和y是定義元素的化學比的數字。所述方法包括：b供應包含碳氟化合物物質和氫物質的第一氣體混合物；c激勵等離子體持續第一預定時間段以在所述襯底上沉積碳氟化合物層；d從所述處理室中去除所述第一氣體混合物；e供應惰性氣體混合物并激勵等離子體持續第二預定時間段以執行激活步驟；以及f從所述處理室中去除所述惰性氣體混合物。
本發明授權使用碳氟化合物阻止層的形貌選擇性和區域選擇性ALD在權利要求書中公布了：1.一種用于選擇性沉積膜的方法，其包括：a將襯底布置在處理室中，其中，所述襯底包括第一材料和第二材料，所述第一材料被暴露并且包含氧化硅SiOz，所述第二材料被暴露并且選自由硅Si和氮化硅SixNy組成的組，其中z、x和y是定義元素的化學比的數字；b供應包含碳氟化合物物質和氫物質的第一氣體混合物；c激勵等離子體持續第一預定時間段以在所述襯底上沉積碳氟化合物層；d從所述處理室中去除所述第一氣體混合物；e供應第二氣體混合物并激勵等離子體持續第二預定時間段以執行去除步驟；以及f從所述處理室中去除所述第二氣體混合物。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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