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龍圖騰網(wǎng)恭喜無錫華潤上華科技有限公司申請的專利光學臨近效應修正方法及系統(tǒng)和掩膜版獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN114609857B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202011409455.0，技術領域涉及：G03F1/36；該發(fā)明授權光學臨近效應修正方法及系統(tǒng)和掩膜版是由孫鵬飛;王謹恒;陳潔;朱斌;張劍;曹楠設計研發(fā)完成，并于2020-12-03向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本光學臨近效應修正方法及系統(tǒng)和掩膜版在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種光學臨近效應修正方法及系統(tǒng)和掩膜版，該方法包括：根據(jù)當前層的前一層的圖形對光刻的原始設計圖形中當前層的區(qū)域進行分類以獲得區(qū)域所屬的類別，區(qū)域所屬的類別包括原始設計圖形中當前層中與前一層上下重疊的重疊區(qū)域和不重疊的非重疊區(qū)域；對各個類別的區(qū)域設定優(yōu)先級，其中，重疊區(qū)域的優(yōu)先級高于非重疊區(qū)域的優(yōu)先級；在原始設計圖形的邊緣設置多個目標點，所述重疊區(qū)域的邊緣設置的目標點的密度大于所述非重疊區(qū)域設置的目標點的密度；根據(jù)OPC模型獲得原始設計圖形的修正圖形，并對其進行模擬以獲得圖形模擬結果；計算各個目標點處圖形模擬結果和原始設計圖形之間的差異；根據(jù)差異以及目標點的權重，對修正圖形進行調(diào)整。

本發(fā)明授權光學臨近效應修正方法及系統(tǒng)和掩膜版在權利要求書中公布了：1.一種光學臨近效應修正方法，其特征在于，光學臨近效應修正方法包括：獲取當前層的前一層的圖形，并根據(jù)所述前一層的圖形，對光刻的原始設計圖形中當前層的區(qū)域進行分類，以獲得所述原始設計圖形中的區(qū)域所屬的類別，其中，所述區(qū)域所屬的類別包括所述原始設計圖形中當前層中與前一層上下重疊的重疊區(qū)域和不重疊的非重疊區(qū)域；對各個類別的區(qū)域設定優(yōu)先級，其中，所述重疊區(qū)域的優(yōu)先級高于所述非重疊區(qū)域的優(yōu)先級；在所述原始設計圖形的邊緣設置多個目標點，其中，所述重疊區(qū)域的邊緣設置的目標點的密度大于所述非重疊區(qū)域設置的目標點的密度；根據(jù)OPC模型獲得所述原始設計圖形的修正圖形，并對所述修正圖形進行模擬，以獲得圖形模擬結果；計算各個所述目標點處所述圖形模擬結果和所述原始設計圖形之間的差異；根據(jù)所述差異以及目標點的權重，對所述修正圖形進行調(diào)整，以獲得調(diào)整后的修正圖形，對所述調(diào)整后的修正圖形進行模擬，以獲得圖形模擬結果，計算各個所述目標點處所述圖形模擬結果和所述修正圖形之間的差異；反復執(zhí)行所述根據(jù)所述差異以及目標點的權重，對所述修正圖形進行調(diào)整，以獲得調(diào)整后的修正圖形，對所述調(diào)整后的修正圖形進行模擬，以獲得圖形模擬結果，計算各個所述目標點處所述圖形模擬結果和所述修正圖形之間的差異的步驟進行迭代，直到獲得最終的修正圖形。

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