恭喜蘇州維業達科技有限公司;蘇州大學劉麟躍獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜蘇州維業達科技有限公司;蘇州大學申請的專利屏蔽膜及其制作方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112449566B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910835890.0，技術領域涉及：H05K9/00；該發明授權屏蔽膜及其制作方法是由劉麟躍;周小紅;基亮亮設計研發完成，并于2019-09-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本屏蔽膜及其制作方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種屏蔽膜，包括由微電鑄制備形成包括多條金屬線的屏蔽區，以及由微電鑄制備形成、連接于所述屏蔽區至少一側、用以降低所述屏蔽區整體的厚度差異的緩沖區。本發明還公開了一種屏蔽膜的制作方法，該方法包括：提供具有屏蔽區圖形凹槽以及與屏蔽區圖形凹槽連接的緩沖區圖形凹槽的固化膠層；在屏蔽區圖形凹槽和緩沖區圖形凹槽內采用微電鑄制備屏蔽區以及與屏蔽區連接的緩沖區；將連接在一起的屏蔽區和緩沖區與固化膠層分離，獲得屏蔽膜。通過微電鑄制備屏蔽區以及在屏蔽區至少一側制備緩沖區，使得屏蔽區的整體的厚度差異較小，從而使屏蔽區的厚度比較均勻，進而增強了屏蔽膜的電磁屏蔽效果。
本發明授權屏蔽膜及其制作方法在權利要求書中公布了：1.一種屏蔽膜，其特征在于，包括由微電鑄制備形成包括多條金屬線的屏蔽區，以及由微電鑄制備形成、連接于所述屏蔽區至少一側、用以降低所述屏蔽區整體的厚度差異的緩沖區，所述屏蔽區四周均設置所述緩沖區；所述緩沖區的寬度大于所述屏蔽區中金屬線的寬度；所述屏蔽區設有第一導電層、設置在所述第一導電層上的第二導電層，所述緩沖區設有第一金屬層、設置在所述第一金屬層上的第二金屬層，所述第一導電層連接所述第一金屬層，所述第二導電層連接所述第二金屬層；所述第二導電層的厚度大于所述第一導電層的厚度，所述第二金屬層的厚度大于所述第一金屬層的厚度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州維業達科技有限公司;蘇州大學，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市蘇州工業園區鐘南街478號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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