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恭喜三星電子株式會社呂尚哲獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜三星電子株式會社申請的專利光學鄰近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112462570B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010818384.3,技術領域涉及:G03F1/36;該發明授權光學鄰近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法是由呂尚哲;崔南柯設計研發完成,并于2020-08-14向國家知識產權局提交的專利申請。

光學鄰近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法在說明書摘要公布了:一種光學鄰近校正方法包括:提取掩模上的圖案的布局的邊緣,邊緣包括該布局的作為曲線邊緣的至少一個邊緣;以及通過對所提取的布局的邊緣應用邊緣濾鏡來生成圖案的光學圖像,該邊緣濾鏡包括與曲線邊緣的角度對應的任意角度濾鏡。可使用源扇區旋轉來生成任意角度濾鏡以與曲線邊緣的角度對應。

本發明授權光學鄰近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法在權利要求書中公布了:1.一種光學鄰近校正方法,包括步驟:提取掩模上的圖案的布局的邊緣,所述邊緣包括所述布局的作為曲線邊緣的至少一個邊緣;以及通過對所述布局的所提取的邊緣應用邊緣濾鏡來生成所述圖案的光學圖像,所述邊緣濾鏡是能夠生成與邊緣對應的部分的光學圖像的濾鏡,并且具有能夠根據邊緣的位置和特性而變化的值,所述邊緣濾鏡包括與所述曲線邊緣的角度對應的任意角度濾鏡,使用源扇區旋轉來生成所述任意角度濾鏡以與所述曲線邊緣的所述角度對應。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人三星電子株式會社,其通訊地址為:韓國京畿道;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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