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龍圖騰網(wǎng)恭喜紐富來(lái)科技股份有限公司申請(qǐng)的專利帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114787958B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180006999.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/305；該發(fā)明授權(quán)帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置是由野村春之;中山田憲昭設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-03-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：迅速且準(zhǔn)確地計(jì)算基板的帶電量。帶電粒子束描繪方法包括：將描繪對(duì)象的基板的描繪區(qū)域假想分割為網(wǎng)格狀，計(jì)算表示每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的上述圖案的配置比例的圖案密度的工序S100；使用上述圖案密度計(jì)算每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的劑量的工序S102；使用將預(yù)先求出的上述抗蝕劑膜的膜厚和劑量作為變量的帶電量計(jì)算用的函數(shù)，根據(jù)形成于上述基板的上述抗蝕劑膜的膜厚以及計(jì)算出的上述劑量計(jì)算帶電量的工序S104；根據(jù)計(jì)算出的上述帶電量計(jì)算描繪位置的位置偏移量的工序S106；以及使用上述位置偏移量校正上述帶電粒子束的照射位置的工序S108。

本發(fā)明授權(quán)帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種帶電粒子束描繪方法，通過(guò)偏轉(zhuǎn)器使帶電粒子束偏轉(zhuǎn)，向形成有抗蝕劑膜的基板照射上述帶電粒子束來(lái)描繪圖案，具備：將上述基板的描繪區(qū)域假想分割為網(wǎng)格狀，計(jì)算表示每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的上述圖案的配置比例的圖案密度的工序；使用上述圖案密度計(jì)算每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的劑量的工序；使用將預(yù)先求出的上述抗蝕劑膜的膜厚與劑量作為變量的帶電量計(jì)算用的函數(shù)，根據(jù)形成于上述基板的上述抗蝕劑膜的膜厚以及計(jì)算出的上述劑量計(jì)算帶電量的工序；根據(jù)計(jì)算出的上述帶電量計(jì)算描繪位置的位置偏移量的工序；以及使用上述位置偏移量校正上述帶電粒子束的照射位置的工序，上述帶電量計(jì)算用的函數(shù)由表示上述抗蝕劑膜的物理特性的參數(shù)決定，物理特性包含抗蝕劑的二次電子發(fā)射概率、介電常數(shù)、射束照射中的電阻率、功函數(shù)以及空穴殘存率的至少任一個(gè)，上述帶電量計(jì)算用的函數(shù)即使在上述抗蝕劑膜的劑量靈敏度不同的情況下也能夠計(jì)算帶電量。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人紐富來(lái)科技股份有限公司，其通訊地址為：日本神奈川縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。