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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種樣品結(jié)構(gòu)及其制作方法、入射空間角標(biāo)定方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN110927409B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201911267392.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01Q60/18；該發(fā)明授權(quán)一種樣品結(jié)構(gòu)及其制作方法、入射空間角標(biāo)定方法是由溫曉鐳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-12-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種樣品結(jié)構(gòu)及其制作方法、入射空間角標(biāo)定方法在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N樣品結(jié)構(gòu)及其制作方法、入射空間角標(biāo)定方法，所述樣品結(jié)構(gòu)，包括襯底、位于襯底上的金屬薄膜，以及位于金屬薄膜內(nèi)部或其上的納米結(jié)構(gòu)。樣品結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制作方法簡(jiǎn)易，但是能夠在傾斜入射光照射下，產(chǎn)生的近場(chǎng)光場(chǎng)分布能夠被SNOM檢測(cè)到，且對(duì)入射光空間角具有良好響應(yīng)，能夠用于SNOM近場(chǎng)光場(chǎng)成像，進(jìn)而由SNOM近場(chǎng)光場(chǎng)成像測(cè)量結(jié)果反推出入射光空間角分量，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)SNOM設(shè)備入射光空間角的標(biāo)定。該標(biāo)定方法簡(jiǎn)便易行，樣品結(jié)構(gòu)制備工藝簡(jiǎn)單，可作為標(biāo)準(zhǔn)樣品對(duì)不同廠家型號(hào)或?qū)嶒?yàn)室搭建的散射式掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡入射光空間角進(jìn)行標(biāo)定，適用范圍廣泛，可大批量生產(chǎn)。

本發(fā)明授權(quán)一種樣品結(jié)構(gòu)及其制作方法、入射空間角標(biāo)定方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種樣品結(jié)構(gòu)，其特征在于，應(yīng)用在反射式照明方式的掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡中對(duì)入射光空間角進(jìn)行標(biāo)定，所述樣品結(jié)構(gòu)包括：襯底；所述襯底的材料為硅片或石英片；位于襯底上的金屬薄膜；所述金屬薄膜的厚度為10nm-500nm，包括端點(diǎn)值；位于所述金屬薄膜內(nèi)或位于所述金屬薄膜上的納米結(jié)構(gòu)；所述納米結(jié)構(gòu)為位于所述金屬薄膜內(nèi)且貫穿所述金屬薄膜的納米單縫、位于所述金屬薄膜內(nèi)且未貫穿所述金屬薄膜的納米凹槽；或位于所述金屬薄膜上的納米凸臺(tái)；當(dāng)所述納米結(jié)構(gòu)為位于所述金屬薄膜內(nèi)的納米單縫時(shí)，所述納米單縫的長(zhǎng)度為10μm-500μm，包括端點(diǎn)值；所述納米單縫的寬度為100nm-1μm，包括端點(diǎn)值。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)，其通訊地址為：230026 安徽省合肥市包河區(qū)金寨路96號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。