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龍圖騰網(wǎng)恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利清潔方法和等離子體處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN117637431B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202311642146.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)清潔方法和等離子體處理裝置是由高山貴光;佐佐木淳一設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-20向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本清潔方法和等離子體處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種清潔方法和等離子體處理裝置，用于抑制對(duì)載置臺(tái)的損傷，并且去除沉積于載置臺(tái)的外周部的沉積物。清潔方法為等離子體處理裝置中的載置臺(tái)的清潔方法，包括進(jìn)行分離的工序和進(jìn)行去除的工序。在進(jìn)行分離的工序中，使用升降機(jī)構(gòu)來使載置臺(tái)與基板分離。在進(jìn)行去除的工序中，在進(jìn)行分離的工序之后，通過從高頻電源向載置臺(tái)供給高頻電力來生成等離子體，從而去除沉積于載置臺(tái)的沉積物。另外，在進(jìn)行分離的工序中，載置臺(tái)與基板的分離距離設(shè)定為形成于載置臺(tái)的外周部周邊的合成阻抗比形成于載置臺(tái)的中心部正上方的合成阻抗低。

本發(fā)明授權(quán)清潔方法和等離子體處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種清潔方法，是等離子體處理裝置中的清潔方法，所述等離子體處理裝置具備：處理容器；基板載置臺(tái)，其設(shè)置于所述處理容器內(nèi)；以及基板升降機(jī)構(gòu)，其具備支承基板的升降銷，所述清潔方法包括以下工序：工序a，控制所述基板升降機(jī)構(gòu)來使升降銷上升，以接受被搬入到所述處理容器內(nèi)的基板假片；工序b，控制所述基板升降機(jī)構(gòu)來使所述升降銷的前端位于所述基板載置臺(tái)的上方且比在工序a中接受所述基板假片的位置低的位置；工序c，在所述工序b之后，使用等離子體對(duì)所述處理容器內(nèi)進(jìn)行清潔；以及工序d，控制所述基板升降機(jī)構(gòu)來使所述升降銷上升，以向所述處理容器外搬出所述基板假片。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。