恭喜朗姆研究公司約瑟夫·阿貝爾獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜朗姆研究公司申請(qǐng)的專利監(jiān)測(cè)室漂移的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN111771271B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201980015547.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/66;該發(fā)明授權(quán)監(jiān)測(cè)室漂移的方法是由約瑟夫·阿貝爾;普魯肖塔姆·庫馬爾;阿德里安·拉沃伊設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2019-02-21向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本監(jiān)測(cè)室漂移的方法在說明書摘要公布了:提供了一種用于監(jiān)測(cè)等離子體處理室中的漂移以進(jìn)行半導(dǎo)體處理的方法。提供多個(gè)循環(huán),其中每個(gè)循環(huán)包括在等離子體處理室中的卡盤上方沉積沉積層,等離子體蝕刻所述沉積層以及測(cè)量用于等離子體蝕刻所述沉積層以蝕刻穿過所述沉積層的時(shí)間。所測(cè)得的用于等離子體蝕刻的時(shí)間用于確定等離子體處理室的漂移。
本發(fā)明授權(quán)監(jiān)測(cè)室漂移的方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種用于監(jiān)測(cè)等離子體處理室中的漂移以進(jìn)行半導(dǎo)體處理的方法,其包括:多個(gè)循環(huán),其中每個(gè)循環(huán)包括:在所述等離子體處理室中的卡盤上沉積沉積層,在沒有晶片的情況下執(zhí)行所述沉積所述沉積層,并且其中,所述沉積所述沉積層直接在所述卡盤的表面上沉積所述沉積層;等離子體蝕刻所述沉積層;以及測(cè)量用于等離子體蝕刻所述沉積層以蝕刻穿過所述沉積層的時(shí)間;以及使用所測(cè)得的時(shí)間以確定等離子體處理室的漂移,其中,使用所測(cè)得的時(shí)間包括:產(chǎn)生用于等離子體蝕刻的時(shí)間相對(duì)于所述多個(gè)循環(huán)中的每個(gè)循環(huán)的曲線圖;使用所述曲線圖確定室的狀況;以及使用所述曲線圖來確定所述等離子體處理室是否需要維修;以及其中,使用所測(cè)得的時(shí)間還包括:使用所測(cè)得的時(shí)間來確定何時(shí)清潔所述等離子體處理室,其中在所述多個(gè)循環(huán)中的每個(gè)循環(huán)之間處理至少一個(gè)生產(chǎn)晶片。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人朗姆研究公司,其通訊地址為:美國加利福尼亞州;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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