恭喜阜寧阿特斯陽光電力科技有限公司;蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團股份有限公司劉志強獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜阜寧阿特斯陽光電力科技有限公司;蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團股份有限公司申請的專利一種用于PERC電池的基片、PERC電池及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111987172B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910435608.X，技術領域涉及：H10F77/30；該發明授權一種用于PERC電池的基片、PERC電池及其制備方法是由劉志強;曹琨;袁中存;費正洪設計研發完成，并于2019-05-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于PERC電池的基片、PERC電池及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種用于PERC電池的基片、PERC電池及其制備方法。所述基片包括具有PN結的硅片層，以及從具有PN結的硅片層背面向外依次設置的背面鈍化層和保護層；背面鈍化層和保護層上開設有多個凹槽，凹槽貫通背面鈍化層和保護層；凹槽沿深度方向包括第一凹槽區和第二凹槽區，第二凹槽區位于第一凹槽區的底部且與第一凹槽區連通，第一凹槽區的開口面積大于第二凹槽區的開口面積。所述PERC電池包括：上述基片，設置在基片背面的背場層，以及從基片正面向外依次設置的正面鈍化層和正面電極。本發明通過在PERC電池上采用上述結構的凹槽，能夠有效減少燒結后背場層材料與硅基底之間空洞的產生。
本發明授權一種用于PERC電池的基片、PERC電池及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種用于PERC電池的基片，其特征在于，所述基片包括具有PN結的硅片層，以及從所述具有PN結的硅片層背面向外依次設置的背面鈍化層和保護層；所述背面鈍化層和保護層上開設有多個凹槽，所述凹槽貫通所述背面鈍化層和所述保護層；所述凹槽沿深度方向包括第一凹槽區和第二凹槽區，所述第二凹槽區位于所述第一凹槽區的底部且與所述第一凹槽區連通，所述第一凹槽區的開口面積大于所述第二凹槽區的開口面積；所述保護層的厚度為80-120nm。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人阜寧阿特斯陽光電力科技有限公司;蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團股份有限公司，其通訊地址為：224431 江蘇省鹽城市阜寧縣經濟開發區協鑫大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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