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龍圖騰網恭喜華芯程(杭州)科技有限公司申請的專利一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119493332B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510077266.4，技術領域涉及：G03F1/72；該發明授權一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質是由請求不公布姓名設計研發完成，并于2025-01-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質在說明書摘要公布了：本發明涉及集成電路生產領域，特別是涉及一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質，通過接收原始掩膜圖案及目標仿真圖案；將所述原始掩膜圖案轉換為多個邊緣段圍成的圖形；通過預訓練的校正集約模型對所述原始掩膜圖案進行仿真模擬，得到各個所述邊緣段對應的掩膜工藝偏差值；根據所述原始掩膜圖案與所述目標仿真圖案，確定各個所述邊緣段的原始設計偏差值；根據所述原始設計偏差值與所述掩膜工藝偏差值確定各個所述邊緣段對應的邊緣放置誤差；根據所述邊緣放置誤差對對應的邊緣段的位置進行調整，得到校正掩膜圖案。本發明僅對邊緣段進行仿真，大大提升了運行速度，也保證了較高的計算精度。

本發明授權一種掩膜工藝校正方法、裝置、設備及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種掩膜工藝校正方法，其特征在于，包括：接收原始掩膜圖案及目標仿真圖案；對所述原始掩膜圖案進行邊緣段切分，將所述原始掩膜圖案轉換為多個邊緣段圍成的圖形；通過預訓練的校正集約模型對所述原始掩膜圖案進行仿真模擬，得到各個所述邊緣段對應的掩膜工藝偏差值；所述校正集約模型為根據整體偏差、電子束曝光偏差及蝕刻偏差計算所述掩膜工藝偏差值的模型；根據所述原始掩膜圖案與所述目標仿真圖案，確定各個所述邊緣段的原始設計偏差值；根據所述原始設計偏差值與所述掩膜工藝偏差值確定各個所述邊緣段對應的邊緣放置誤差；根據所述邊緣放置誤差對對應的邊緣段的位置進行調整，得到校正掩膜圖案；在計算各個所述邊緣段的掩膜工藝偏差值之前，還包括：判斷各個所述邊緣段的長度是否超過預設的臨界長度；相應地，通過預訓練的校正集約模型對所述邊緣段進行仿真模擬，得到對應的掩膜工藝偏差值包括：當所述邊緣段的長度超過所述臨界長度時，通過預訓練的一維校正集約模型對所述邊緣段進行仿真模擬，得到對應的掩膜工藝偏差值；當所述邊緣段的長度沒有超過所述臨界長度時，通過預訓練的二維校正集約模型對所述邊緣段進行仿真模擬，得到對應的掩膜工藝偏差值。

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