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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利補償室和工藝效應以改善修整工藝的關鍵尺寸變化獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112534561B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980051428.X，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權補償室和工藝效應以改善修整工藝的關鍵尺寸變化是由普爾凱特·阿加瓦爾;阿德里安·拉沃伊;拉維·庫馬爾;普魯肖塔姆·庫馬爾設計研發完成，并于2019-07-31向國家知識產權局提交的專利申請。

本補償室和工藝效應以改善修整工藝的關鍵尺寸變化在說明書摘要公布了：一種控制器包含存儲器，其存儲將累積值與相應的調整系數相關聯的數據。所述累積值對應于在處理室內的表面上材料的累積，并且所述相應的調整系數對應于對提供至所述處理室的射頻RF功率的控制參數的調整。累積計算模塊被設置成計算第一累積值，所述第一累積值指出所述材料的累積量。RF功率控制模塊被設置成：接收所述第一累積值；接收設定值功率和所述蝕刻步驟的持續時間中的至少一者；從所述存儲器提取所存儲的所述數據；基于所述第一累積值、所述設定值功率和所述蝕刻步驟的所述持續時間中的所述至少一者、以及所存儲的所述數據來調整所述控制參數；以及根據所調整的所述控制參數來控制被提供至所述處理室的所述RF功率。

本發明授權補償室和工藝效應以改善修整工藝的關鍵尺寸變化在權利要求書中公布了：1.一種控制器，其包含：存儲器，其存儲將累積值與相應的調整系數相關聯的數據，其中所述累積值對應于在處理室內的表面上材料的累積，所述處理室被設置成在襯底上執行蝕刻及沉積，并且其中所述相應的調整系數對應于針對在執行圖案化工藝的蝕刻步驟時提供至所述處理室的射頻功率的控制參數的調整；累積計算模塊，其被設置成計算第一累積值，所述第一累積值指出所述材料的累積量；以及射頻功率控制模塊，其被設置成：接收所述第一累積值，接收設定值功率和所述蝕刻步驟的持續時間中的至少一者，所述設定值功率將在所述蝕刻步驟期間提供，從存儲器提取所存儲的所述數據，基于所述第一累積值、所述設定值功率和所述蝕刻步驟的所述持續時間中的所述至少一者、以及所存儲的所述數據來調整所述控制參數，以及根據所調整的所述控制參數來控制在所述蝕刻步驟期間被提供至所述處理室的所述射頻功率。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。