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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;真芯(北京)半導(dǎo)體有限責(zé)任公司申請(qǐng)的專利一種絕緣窗、反應(yīng)腔及電感耦合等離子體處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114520138B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011297698.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)一種絕緣窗、反應(yīng)腔及電感耦合等離子體處理裝置是由李相龍;周娜;李俊杰;李琳;王佳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種絕緣窗、反應(yīng)腔及電感耦合等離子體處理裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)一種絕緣窗、反應(yīng)腔及電感耦合等離子體處理裝置，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，以解決由于陶瓷窗表面溫度不均勻，生成聚合物顆粒，影響刻蝕工藝的良率和性能的問(wèn)題。所述絕緣窗包括：絕緣窗本體、加熱組件和溫度控制組件。絕緣窗本體具有腔體結(jié)構(gòu)。加熱組件均勻的設(shè)置在腔體結(jié)構(gòu)中，用于對(duì)絕緣窗本體進(jìn)行加熱。溫度控制組件與加熱組件相連接，用于調(diào)節(jié)加熱組件的加熱溫度。所述反應(yīng)腔包括上述技術(shù)方案所提的絕緣窗。所述電感耦合等離子體處理裝置包括上述技術(shù)方案所提的絕緣窗。本發(fā)明提供的電感耦合等離子體處理裝置用于處理晶圓。

本發(fā)明授權(quán)一種絕緣窗、反應(yīng)腔及電感耦合等離子體處理裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種絕緣窗，其特征在于，應(yīng)用于電感耦合等離子處理設(shè)備的反應(yīng)腔中，所述絕緣窗包括：絕緣窗本體、加熱組件和溫度控制組件；所述絕緣窗本體具有腔體結(jié)構(gòu)；所述加熱組件均勻的設(shè)置在所述腔體結(jié)構(gòu)中，用于對(duì)所述絕緣窗本體進(jìn)行加熱；所述溫度控制組件與所述加熱組件相連接，用于調(diào)節(jié)所述加熱組件的加熱溫度；所述加熱組件包括至少一個(gè)加熱管道；所述溫度控制組件，包括：蒸發(fā)器和第二控制器，所述蒸發(fā)器與所述加熱管道和液體供應(yīng)管道連接，所述蒸發(fā)器用于將所述液體供應(yīng)管道內(nèi)的液體蒸發(fā)為氣體狀態(tài)；所述第二控制器，用于在氣體溫度到達(dá)預(yù)設(shè)溫度時(shí)，控制所述蒸發(fā)器將氣體通入所述加熱管道。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;真芯(北京)半導(dǎo)體有限責(zé)任公司，其通訊地址為：100029 北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。