恭喜朗姆研究公司大衛·查爾斯·史密斯獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利含金屬硬掩模薄膜的選擇性生長獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112368804B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980043731.5，技術領域涉及：H01L21/033；該發明授權含金屬硬掩模薄膜的選擇性生長是由大衛·查爾斯·史密斯;喬恩·亨利;丹尼斯·M·豪斯曼;保羅·C·萊曼利設計研發完成，并于2019-06-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本含金屬硬掩模薄膜的選擇性生長在說明書摘要公布了：本文提供用于選擇性生長含金屬硬掩模的方法和裝置。所述方法包括：提供具有分隔特征的圖案的襯底，各特征具有頂部水平表面；用含碳材料填充分隔特征之間的空間，以形成具有特征的頂部水平表面和含碳材料的平坦表面；相對于含碳材料在特征的頂部水平表面上選擇性地沉積含金屬硬掩模；以及相對于含金屬硬掩模和特征而選擇性地移除含碳材料。
本發明授權含金屬硬掩模薄膜的選擇性生長在權利要求書中公布了：1.一種用于處理襯底的方法，其包括：提供圖案化半導體襯底，其在待蝕刻的下伏材料上具有分隔開的特征；用可灰化填充物填充所述特征之間的空間，使得所述特征的頂部水平表面暴露，且所述特征的側壁接觸所述可灰化填充物；在填充所述特征之間的所述空間后，相對于所述可灰化填充物在所述特征的所暴露的所述頂部水平表面上選擇性地沉積含金屬硬掩模；以及相對于所述特征和所述含金屬硬掩模移除所述可灰化填充物；其中所述特征含有介電材料。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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