恭喜中央硝子株式會社福井由季獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中央硝子株式會社申請的專利倒角部處理劑組合物和晶圓的制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113169060B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201980076584.1,技術領域涉及:H01L21/304;該發明授權倒角部處理劑組合物和晶圓的制造方法是由福井由季;奧村雄三;照井貴陽;公文創一設計研發完成,并于2019-10-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本倒角部處理劑組合物和晶圓的制造方法在說明書摘要公布了:本發明的倒角部處理劑組合物為用于對晶圓的倒角部進行處理的、含有甲硅烷基化劑的倒角部處理劑組合物,具有按照規定的步驟測得的表面改質指標Y與表面改質指標Z滿足0.5≤YZ≤1.0的特性。
本發明授權倒角部處理劑組合物和晶圓的制造方法在權利要求書中公布了:1.一種倒角部處理劑組合物的使用方法,其為用于對晶圓的倒角部進行處理的、含有甲硅烷基化劑的倒角部處理劑組合物的使用方法,按照下述步驟1~4測得的表面改質指標Y與表面改質指標Z滿足0.5≤YZ≤1.0,步驟1利用該倒角部處理劑組合物對在表面具有厚度1μm的硅氧化膜SiO2膜的基板進行處理,處理條件如下:將所述基板在室溫下浸漬于1質量%的氫氟酸水溶液中10分鐘,接著,在純水中浸漬1分鐘、在2-丙醇iPA中浸漬1分鐘,接著,在該倒角部處理劑組合物中以25℃浸漬1分鐘,接著,在iPA中浸漬1分鐘,最后,將所述基板從iPA中取出,吹送空氣,將所述基板表面的iPA去除,步驟2用水與iPA的混合比率不同的多個測定用液體,根據ZismanPlot法求出步驟1處理后的硅氧化膜的臨界表面張力,將得到的臨界表面張力的值mNm作為“表面改質指標Y”,步驟3利用該倒角部處理劑組合物對在表面具有厚度50nm的硅氮化膜SiN膜的基板進行處理,處理條件如下:將所述基板在室溫下浸漬于1質量%的氫氟酸水溶液中10分鐘,接著,在純水中浸漬1分鐘,在iPA中浸漬1分鐘,接著,在該倒角部處理劑組合物中以25℃浸漬1分鐘,接著,在iPA中浸漬1分鐘,最后,將所述基板從iPA中取出,吹送空氣,將所述基板表面的iPA去除,步驟4用水與iPA的混合比率不同的多個測定用液體,根據ZismanPlot法求出步驟3處理后的硅氮化膜的臨界表面張力,將得到的臨界表面張力的值mNm作為“表面改質指標Z”。
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