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龍圖騰網恭喜日產化學株式會社申請的專利單層相位差材料的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116323702B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180066988.X，技術領域涉及：G02B5/30；該發明授權單層相位差材料的制造方法是由山極大輝;藤枝司設計研發完成，并于2021-09-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本單層相位差材料的制造方法在說明書摘要公布了：根據一種單層相位差材料的制造方法，能夠制作相位差值及雙折射高的單層相位差材料，所述單層相位差材料的制造方法包含以下工序：I將聚合物組合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及II對所述涂膜照射偏振光紫外線，所述聚合物組合物包含在側鏈具有以波長365nm的光進行光二聚化或光異構化的光反應性部位的聚合物，偏振光紫外線中的波長313nm的光在波長365nm的光與波長313nm的光的合計量中所占的量為10％以下。

本發明授權單層相位差材料的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種單層相位差材料的制造方法，其特征在于，包含以下工序：（I）將聚合物組合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及（II）對所述涂膜照射偏振光紫外線，所述聚合物組合物包含在側鏈具有以波長365nm的光進行光二聚化或光異構化的光反應性部位的聚合物，所述光反應性部位由下述式（a3）表示： ;式（a3）中，A1表示單鍵、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、或-NH-CO-，L表示碳原子數1～12的亞烷基，該亞烷基的氫原子各自獨立地被或不被鹵素原子替代，Y1表示2價苯環，Q1表示選自苯環和碳原子數5～8的脂環式烴環中的基團，在Y1和Q1中，與苯環鍵合的氫原子各自獨立地被或不被氰基、鹵素原子、碳原子數1～5的烷基、碳原子數1～5的烷基羰基、或碳原子數1～5的烷基氧基替代，X1表示單鍵、-O-、-COO-、或-OCO-，n1為0、1或2，當X1的數量為2時，X1彼此相同或不同，當Q1的數量為2時，Q1彼此相同或不同；虛線表示結合鍵，所述偏振光紫外線中波長313nm的光在波長365nm的光與波長313nm的光的合計量中所占的量為10%以下，所述單層相位差材料的厚度為0.5～10μm。

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