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龍圖騰網恭喜山東承勢電子科技有限公司申請的專利基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119296143B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-25發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411795212.3，技術領域涉及：G06V40/12；該發明授權基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法是由胡明征;王宇潤;付樹軍;李一嘯;付耕設計研發完成，并于2024-12-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法在說明書摘要公布了：本發明涉及圖像處理技術領域，具體公開基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法，本發明通過對軟件生成的高質量指紋進行退化以獲得配對的低質量潛在指紋和高質量指紋數據集；設計雙分支空間注意力模塊并加入增強網絡，使得增強網絡能夠同時學習高質量和低質量指紋區域的特征；使用重建損失和多個方向場損失以及生成的指紋數據集引導增強網絡的訓練，使得增強網絡能夠學習潛在指紋的方向場特征；將待增強的潛在指紋輸入訓練后的增強網絡，得到高質量的增強結果；通過使增強網絡能夠更好地提取潛在指紋的方向場特征和不同質量區域的特征，從而提高增強網絡識別潛在指紋的精確度。

本發明授權基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法在權利要求書中公布了：1.基于方向場引導和空間注意力技術的指紋特征識別分析方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟一、配對的低質量潛在指紋集和高質量指紋集獲取：獲取高質量指紋圖像集，通過自適應濾波對各高質量指紋進行一次退化，進一步通過高斯模糊、形態學處理的膨脹和腐蝕運算對各高質量指紋進行二次退化，生成高質量指紋集的退化指紋集，將高質量指紋集的退化指紋集與鋼材表面缺陷數據集進行疊加，得到高質量指紋集對應的低質量潛在指紋集，構建配對的低質量潛在指紋集和高質量指紋集；步驟二、增強網絡構建：設計雙分支空間注意力模塊，進一步構建包含雙分支空間注意力模塊的增強網絡；所述步驟二的具體分析過程為：Q1：使用連續的3個殘差塊作為雙分支空間注意力模塊的高質量分支，提取輸入的高質量區域的特征；Q2：使用連續的2個2x2下采樣塊、6個殘差塊以及2個2x2上采樣塊作為雙分支空間注意力模塊的低質量分支，提取輸入的低質量區域的特征；Q3：使用3x3卷積分別對雙分支空間注意力模塊的高質量分支和低質量分支提取的特征進行處理，并將兩個處理結果相加，得到特征和；Q4：使用3x3卷積處理Q3獲取的特征和，預測高質量分支和低質量分支對應的空間注意力權重；Q5：將高質量分支和低質量分支提取的特征與其分支對應的空間注意力權重相乘并求和，進一步使用連續的6個殘差塊對求和結果進行處理，得到融合后的特征，進而完成雙分支空間注意力模塊的設計；Q6：將設計的雙分支空間注意力模塊加入增強網絡中，得到包含雙分支空間注意力模塊的增強網絡；步驟三、增強網絡總損失生成：設計增強網絡的重建損失和各方向場損失，其中各方向場損失包括高質量分支預測結果的方向場損失、低質量分支預測結果的方向場損失以及高質量分支和低質量分支對應特征融合后的預測結果的方向場損失，進一步生成增強網絡的總損失；步驟四、增強網絡訓練：使用配對的低質量潛在指紋集和高質量指紋集以及增強網絡的總損失對增強網絡進行訓練，獲取訓練后的增強網絡；步驟五、潛在指紋圖像增強：將待增強的潛在指紋圖像輸入到訓練后的增強網絡，獲取增強后的潛在指紋圖像，進行反饋。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人山東承勢電子科技有限公司，其通訊地址為：250000 山東省濟南市市中區萬壽路2號濟南國際創新產業園B座301室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。