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恭喜北京特思迪半導體設備有限公司周惠言獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜北京特思迪半導體設備有限公司申請的專利晶圓薄膜厚度測量方法及設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119468944B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-25發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510067178.6,技術領域涉及:G01B11/06;該發明授權晶圓薄膜厚度測量方法及設備是由周惠言;孟煒濤;孫昕宇;蔣繼樂;黃銀國;葛乃義設計研發完成,并于2025-01-16向國家知識產權局提交的專利申請。

晶圓薄膜厚度測量方法及設備在說明書摘要公布了:本發明提供一種晶圓薄膜厚度測量方法及設備,所述方法包括:獲取第一膜厚反射率庫和第二膜厚反射率庫;利用標定系數將第一膜厚反射率庫中的反射率值轉換為電信號值、利用標定系數將第二膜厚反射率庫中的反射率值轉換為電信號值;獲取未知厚度的晶圓薄膜對第一單波長光束的反射光的光強度對應的電信號,以及對第二單波長光束的反射光的光強度對應的電信號;利用電信號在第一膜厚電信號庫中匹配得到第一厚度集、利用電信號在所述第二膜厚電信號庫中匹配得到第二厚度集;通過求取第一厚度集與第二厚度集的交集得到晶圓薄膜的厚度。

本發明授權晶圓薄膜厚度測量方法及設備在權利要求書中公布了:1.一種晶圓薄膜厚度測量方法,其特征在于,包括:獲取第一膜厚反射率庫和第二膜厚反射率庫,其中所述第一膜厚反射率庫是基于波長所建立的不同的厚度值及其對應的反射率值的數據庫,所述第二膜厚反射率庫是基于波長所建立的不同的厚度值及其對應的反射率值的數據庫,且反射率值隨厚度值的變化呈現周期性變化;利用標定系數將所述第一膜厚反射率庫中的反射率值轉換為電信號值、利用標定系數將所述第二膜厚反射率庫中的反射率值轉換為電信號值,得到第一膜厚電信號庫和第二膜厚電信號庫;獲取未知厚度的晶圓薄膜對第一單波長光束的反射光的光強度對應的電信號,以及對第二單波長光束的反射光的光強度對應的電信號,其中所述第一單波長光束和所述第二單波長光束的波長不相同,分別為波長和波長;利用所述電信號在所述第一膜厚電信號庫中匹配得到第一厚度集、利用所述電信號在所述第二膜厚電信號庫中匹配得到第二厚度集;通過求取所述第一厚度集與所述第二厚度集的交集得到晶圓薄膜的厚度。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人北京特思迪半導體設備有限公司,其通訊地址為:101300 北京市順義區杜楊北街3號院6號樓(順創);或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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