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龍圖騰網恭喜中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利缺陷檢測方法及缺陷檢測系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112444526B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910838099.5，技術領域涉及：G01N21/95；該發明授權缺陷檢測方法及缺陷檢測系統是由孟陽;王偉斌設計研發完成，并于2019-09-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本缺陷檢測方法及缺陷檢測系統在說明書摘要公布了：一種缺陷檢測方法及缺陷檢測系統，包括：提供晶圓，所述晶圓包括檢測面；對所述檢測面進行掃描，獲取所述檢測面的掃描圖像，所述掃描圖像包括若干第一單元圖形；提供設計圖像，所述設計圖像包括與所述第一單元圖形對應的若干第二單元圖形；根據所述設計圖像對所述掃描圖像進行篩選，去除所述第一單元圖形中的干擾缺陷單元圖形。在本發明的技術方案中，通過將第一單元圖形中的干擾缺陷單元圖形進行部分篩選去除，有效減少了后續檢測分析的第一單元圖形的數量，縮短了檢測時間，從而提高了檢測效率。

本發明授權缺陷檢測方法及缺陷檢測系統在權利要求書中公布了：1.一種缺陷檢測方法，其特征在于，包括：提供晶圓，所述晶圓包括檢測面；對所述檢測面進行掃描，獲取所述檢測面的掃描圖像，所述掃描圖像包括若干第一單元圖形；提供設計圖像，所述設計圖像包括與所述第一單元圖形對應的若干第二單元圖形；根據所述設計圖像對所述掃描圖像進行篩選，去除所述第一單元圖形中由于制作工藝上的偏差所形成的干擾缺陷單元圖形；其中，根據所述設計圖像對所述掃描圖像進行篩選的方法包括：根據對所述設計圖像和所述掃描圖像測量獲取篩選值；提供與所述篩選值相對應的篩選條件；根據所述篩選值與所述篩選條件進行對比，判斷各個所述第一單元圖形是否為干擾缺陷單元圖形；當所述第一單元圖形為干擾缺陷單元圖形時，將所述干擾缺陷單元圖形自所述掃描圖像中刪除；所述篩選值包括：所述第一單元圖形與其對應的所述第二單元圖形的重疊率值、所述第二單元圖形的特征尺寸值以及所述第二單元圖形的圖形間距值，其中所述重疊率值為所述第一單元圖形和對應的所述第二單元圖形的重疊面積與所述第二單元圖形的面積的比值；所述篩選條件包括：重疊率閾值、特征尺寸閾值和圖形間距閾值；根據所述篩選值與所述篩選條件對比，判斷各個所述第一單元圖形是否為干擾缺陷單元圖形的方法包括：當所述重疊率值小于或等于所述重疊率閾值、所述特征尺寸值大于或等于所述特征尺寸閾值且所述圖形間距值大于或等于所述圖形間距閾值，則判斷所述第一單元圖形為干擾缺陷單元圖形。

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