恭喜關東電化工業株式會社清水久志獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜關東電化工業株式會社申請的專利包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112956002B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980070061.6，技術領域涉及：H01L21/3065；該發明授權包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法是由清水久志;加藤惟人設計研發完成，并于2019-10-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法在說明書摘要公布了：提供：包含含硫不飽和化合物的、對硅系膜的層疊結構體的蝕刻用途有用的新型蝕刻氣體組合物。一種干蝕刻氣體組合物，其包含用通式1：CxFySz式中，x、y和z為2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2表示的、具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物。
本發明授權包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法在權利要求書中公布了：1.一種干蝕刻氣體組合物，其包含用通式1：CxFySz表示的、具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物，式中，x、y和z為2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2，其中，所述干蝕刻氣體組合物除所述含硫碳氟化合物之外，還包含選自由O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、SO2和SO3組成的組中的至少1種含氧化合物，所述含氧化合物的比率相對于所述通式1所示的化合物與所述含氧化合物的總量為5～80％，所述含硫碳氟化合物為選自 2,2,3,4,5,5-六氟-2,5-二氫噻吩、 三氟乙烯基三氟甲基硫醚、 1,1,2,3,4,5-六氟-1,1-二氫噻吩、 2,3-雙三氟甲基噻丙烯、 3,3,3-三氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-氯化亞砜、 2,2,3,3,4,5-六氟-2,3-二氫噻吩、 2,2,3,4,4-五氟-3-丁烯亞硫酰氟、 2,2,3,3,3-五氟-丙烷亞硫酰氟、 1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙硫酮、 1,3,3,3-四氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-磺酰氟、 1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-丁硫酮、 2,3,4,5-四氟噻吩中的至少一種。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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