恭喜應用材料公司任河獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利完全對準消去處理及來自此處理的電子裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113811988B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080032724.8，技術領域涉及：H01L21/768；該發明授權完全對準消去處理及來自此處理的電子裝置是由任河;姜浩;梅裕爾·奈克設計研發完成，并于2020-05-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本完全對準消去處理及來自此處理的電子裝置在說明書摘要公布了：描述了形成連接在兩個方向上延伸的兩條金屬線的完全對準的過孔的方法。完全對準的過孔沿著兩個方向與第一金屬線和第二金屬線對準。在與第一金屬層電接觸的第二金屬層的頂部上圖案化第三金屬層。圖案化的第三金屬層與第二金屬層的頂部未對準。使第二金屬層凹陷以暴露第二金屬層的側面并移除未對準第三金屬層的側面的部分。
本發明授權完全對準消去處理及來自此處理的電子裝置在權利要求書中公布了：1.一種形成多個完全對準的過孔的方法，所述方法包括以下步驟：圖案化在第二金屬層的頂部上的第三金屬層，所述第二金屬層與第一金屬層電接觸，圖案化的第三金屬層與所述第二金屬層未對準，使得暴露所述第二金屬層的所述頂部的一部分，圖案化的第四金屬層和圖案化的第四蝕刻終止層用作用于圖案化所述第三金屬層的掩模，其中形成所述圖案化的第四金屬層和所述圖案化的第四蝕刻終止層包括在所述第三金屬層上沉積第四金屬層和第四蝕刻終止層，使用硬掩模層和圖案化的光刻膠來圖案化所述第四金屬層和所述第四蝕刻終止層；和使所述第二金屬層的所述頂部凹陷以暴露與所述圖案化的第三金屬層對準的所述第二金屬層的多個側面并使所述第二金屬層的頂部從所述第三金屬層的底部凹陷一定距離。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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