恭喜朗姆研究公司納格拉杰·尚卡爾獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利具有氣隙隔離充氣室的噴頭和高架式隔離氣體分配器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112136206B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980033022.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權具有氣隙隔離充氣室的噴頭和高架式隔離氣體分配器是由納格拉杰·尚卡爾;杰弗里·D·沃馬克;梅里哈·歌德·蘭維爾;埃米爾·C·德拉佩;潘卡伊·G·拉瑪尼;畢峰;張鵬翼;伊爾哈姆·莫希米;卡普·瑟里什·雷迪設計研發完成，并于2019-05-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本具有氣隙隔離充氣室的噴頭和高架式隔離氣體分配器在說明書摘要公布了：提供用于獨立輸送不同的、相互反應的工藝氣體至晶片處理空間的噴頭。所述噴頭包含具有經由間隙而彼此隔開的多個充氣室結構的第一氣體分配器、以及定位于所述第一氣體分配器上方的第二氣體分配器。可使來自第二氣體分配器的隔離氣體向下流至第一氣體分配器上并通過第一氣體分配器的所述充氣室結構之間的間隙，從而建立隔離氣體簾，其避免從各充氣室結構釋出的工藝氣體寄生性地沉積于提供其他氣體的充氣室結構上。
本發明授權具有氣隙隔離充氣室的噴頭和高架式隔離氣體分配器在權利要求書中公布了：1.一種用于半導體處理的設備，所述設備包含：氣體分配系統，其包括：隔離氣體分配器，其包括隔離氣體充氣室容積和與所述隔離氣體充氣室容積流體連通的多個隔離氣體端口，所述隔離氣體端口被配置成使得當隔離氣體流過所述隔離氣體充氣室容積并從所述隔離氣體端口流出時，所述隔離氣體沿第一平均方向流動；和工藝氣體分配器，該工藝氣體分配器包括多個工藝氣體充氣室結構，每個工藝氣體充氣室結構包括與相應的多個氣體分配端口流體連接的相應的工藝氣體充氣室容積并且具有在沿著所述第一平均方向觀看時通過相應的間隙與其他工藝氣體充氣室結構的至少一部分彼此間隔開的至少一部分，其中，所述工藝氣體分配器被定位成使得當所述隔離氣體從所述隔離氣體分配器的所述隔離氣體端口沿所述第一平均方向流動時，所述隔離氣體流過所述工藝氣體分配器。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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