恭喜三星電子株式會社路四清獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜三星電子株式會社申請的專利等離子體處理裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN110867363B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-08發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201910519648.2,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權等離子體處理裝置是由路四清;野口恭史;李天揆設計研發完成,并于2019-06-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本等離子體處理裝置在說明書摘要公布了:等離子體處理裝置包括處理室、設置在處理室中的基板卡盤和溫度控制器。基板卡盤被配置為容納基板,并且包括冷卻劑流過的冷卻通道。溫度控制器被配置為控制供應給冷卻通道的冷卻劑的溫度。溫度控制器包括:冷卻器,被配置為對供應給冷卻通道的冷卻劑進行冷卻;加熱器,被配置為對供應給冷卻通道的冷卻劑進行加熱;以及三通閥,被配置為調節冷卻劑通過冷卻器的第一流速和冷卻劑通過加熱器的第二流速。
本發明授權等離子體處理裝置在權利要求書中公布了:1.一種等離子體處理裝置,包括:處理室;基板卡盤,設置在所述處理室中,其中所述基板卡盤被配置為容納基板,并且所述基板卡盤包括冷卻劑流過的冷卻通道;以及溫度控制器,被配置為控制供應給所述冷卻通道的所述冷卻劑的溫度,其中,所述溫度控制器包括:冷卻器,被配置為對供應給所述冷卻通道的所述冷卻劑進行冷卻;加熱器,被配置為對供應給所述冷卻通道的所述冷卻劑進行加熱;以及三通閥,被配置為調節所述冷卻劑通過所述冷卻器的第一流速和所述冷卻劑通過所述加熱器的第二流速,其中,所述冷卻通道包括:第一通道;第二通道,設置在所述第一通道內部,其中,所述基板卡盤的邊緣與所述第一通道之間的第一徑向距離小于所述基板卡盤的所述邊緣與所述第二通道之間的第二徑向距離;連接通道,在所述第一通道與所述第二通道之間延伸;以及旁路通道,從所述連接通道分支并延伸到所述基板卡盤外部,其中,所述第二通道設置在所述基板卡盤的中心部分附近,并且所述第一通道設置在所述基板卡盤的邊緣部分附近,以及其中,當所述基板卡盤的所述邊緣部分的溫度高于所述基板卡盤的所述中心部分的溫度時,所述溫度控制器被配置為通過所述旁路通道將所述冷卻劑排出到所述基板卡盤外部,使得所述冷卻劑流過所述第二通道的第三流速小于所述冷卻劑流過所述第一通道的第四流速。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人三星電子株式會社,其通訊地址為:韓國京畿道;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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