恭喜ASML荷蘭有限公司D·騰·胡彭獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于制造阻尼裝置的方法、光刻設備、投影系統和器件制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111465903B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201880080977.5,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權用于制造阻尼裝置的方法、光刻設備、投影系統和器件制造方法是由D·騰·胡彭;F-X·德比耶斯密;E·P-Y·韋納設計研發完成,并于2018-11-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于制造阻尼裝置的方法、光刻設備、投影系統和器件制造方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于制造包括第一部分和第二部分的阻尼裝置的方法,該方法包括以下步驟:a在第一部分和第二部分之間的空間中提供阻尼材料,使得阻尼材料在該空間中處于壓縮狀態;和b將該阻尼裝置加熱至預定溫度,以便將阻尼材料粘附到第一部分和第二部分。
本發明授權用于制造阻尼裝置的方法、光刻設備、投影系統和器件制造方法在權利要求書中公布了:1.一種用于制造阻尼裝置的方法,所述阻尼裝置包括第一部分和第二部分,所述方法包括以下步驟:a在充當所述阻尼裝置的彈簧的所述第一部分和所述第二部分之間的空間中提供阻尼材料,使得所述阻尼材料在所述空間中處于壓縮狀態;和b將所述阻尼裝置加熱至預定溫度,以便將所述阻尼材料粘附到所述第一部分和所述第二部分,其中所述預定溫度低于阻尼材料的熔化溫度,但是高到足以使所述阻尼材料將自身調整到所述彈簧的所述第一部分和所述第二部分兩者的表面。
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