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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所申請(qǐng)的專(zhuān)利一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111748795B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：201910250504.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/455；該發(fā)明授權(quán)一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置是由楊彬;陳特超;陳國(guó)欽;唐電;蘇衛(wèi)中;楊勇設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-03-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置，包括位于反應(yīng)腔室上蓋上的上送氣座、位于反應(yīng)腔室內(nèi)的下送氣座、以及位于上送氣座和下送氣座之間的過(guò)渡座，上送氣座上設(shè)有多個(gè)上送氣接頭，過(guò)渡座上設(shè)有多個(gè)過(guò)渡通道，所述下送氣座上設(shè)有多個(gè)下送氣接頭，各上送氣接頭下端與各所述過(guò)渡通道的上端一一對(duì)應(yīng)布置，各下送氣接頭上端一一對(duì)應(yīng)地伸入各所述過(guò)渡通道的下端，所述過(guò)渡座上端于各所述過(guò)渡通道外周分別設(shè)有第一密封圈，過(guò)渡座上端邊緣設(shè)有包括所有第一密封圈在內(nèi)的第二密封圈。本發(fā)明可將氣體從固定不動(dòng)的下反應(yīng)腔室安全地引入到鉸鏈?zhǔn)椒w結(jié)構(gòu)的活動(dòng)上蓋的噴氣口，本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可靠性好、不易出現(xiàn)氣體泄漏等優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明授權(quán)一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室特氣耦合輸送裝置，用于將氣體從固定不動(dòng)的下反應(yīng)腔室引入到活動(dòng)的反應(yīng)腔室上蓋，其特征在于：包括位于反應(yīng)腔室上蓋上的上送氣座（1）、位于反應(yīng)腔室內(nèi)的下送氣座（2）、以及位于上送氣座（1）和下送氣座（2）之間的過(guò)渡座（3），所述上送氣座（1）上設(shè)有多個(gè)上送氣接頭（11），所述過(guò)渡座（3）上設(shè)有多個(gè)過(guò)渡通道（31），所述下送氣座（2）上設(shè)有多個(gè)下送氣接頭（21），各所述上送氣接頭（11）下端與各所述過(guò)渡通道（31）的上端一一對(duì)應(yīng)布置，各所述下送氣接頭（21）上端一一對(duì)應(yīng)地伸入各所述過(guò)渡通道（31）的下端，所述過(guò)渡座（3）上端于各所述過(guò)渡通道（31）外周分別設(shè)有第一密封圈（33），過(guò)渡座（3）上端邊緣設(shè)有包括所有第一密封圈（33）在內(nèi)的第二密封圈（32），所述下送氣接頭（21）外周套設(shè)有彈性件（23），所述彈性件（23）上端與所述過(guò)渡座（3）抵接，彈性件（23）下端與所述下送氣座（2）抵接以使得過(guò)渡座（3）可以上下運(yùn)動(dòng)；所述過(guò)渡座（3）內(nèi)設(shè)有抽真空通道（34），所述抽真空通道（34）的進(jìn)氣口位于所述第一密封圈（33）和第二密封圈（32）之間，且出氣口連接有抽真空泵；所述下送氣接頭（21）上端設(shè)有至少一個(gè)第三密封圈（22）。

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