恭喜頂諾微電子(北京)有限公司夏令獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜頂諾微電子(北京)有限公司申請(qǐng)的專利一種功率晶體管獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113451402B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202010212248.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D30/47；該發(fā)明授權(quán)一種功率晶體管是由夏令設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-03-24向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種功率晶體管在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)涉及一種功率晶體管，至少包括襯底、緩沖層以及勢(shì)壘層；以及位于所述勢(shì)壘層以上的柵極、源極和漏極；其中，在所述柵極下方和所述源極、漏極之間的導(dǎo)電溝道中設(shè)有一個(gè)或多個(gè)絕緣的隔離結(jié)構(gòu)。本申請(qǐng)還涉及包括該種功率晶體管的電子設(shè)備。
本發(fā)明授權(quán)一種功率晶體管在權(quán)利要求書中公布了：1.一種HEMT功率晶體管，至少包括：襯底、緩沖層以及勢(shì)壘層；以及,位于所述勢(shì)壘層以上的柵極、源極和漏極；其中，在所述柵極下方和所述源極、漏極之間的導(dǎo)電溝道中設(shè)有一個(gè)或多個(gè)絕緣的隔離結(jié)構(gòu)；其中所述隔離結(jié)構(gòu)包括經(jīng)離子注入而形成的絕緣區(qū)域。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人頂諾微電子(北京)有限公司，其通訊地址為：100085 北京市海淀區(qū)創(chuàng)業(yè)中路36號(hào)409；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報(bào)告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報(bào)告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報(bào)告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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