買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜成都思越智能裝備股份有限公司申請的專利一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119369329B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202411974780.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B25B11/00；該發(fā)明授權(quán)一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備是由趙建普;曾賢設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-12-31向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備在說明書摘要公布了：一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備，其條狀鑲磁密封墊的一端連接卷料組件，條狀鑲磁密封墊的另外一端吸附在密封墊吸附平臺的上方，處于密封墊吸附平臺的上方的條狀鑲磁密封墊封閉形成吸附空腔；外整形磁鐵處于吸附空腔的外部，內(nèi)整形磁鐵處于吸附空腔的內(nèi)部，外整形磁鐵、內(nèi)整形磁鐵均吸附在密封墊吸附平臺；位置調(diào)整驅(qū)動組件帶動旋轉(zhuǎn)T軸模組及旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭水平移動，旋轉(zhuǎn)T軸模組帶動旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭帶動外整形磁鐵、內(nèi)整形磁鐵對條狀鑲磁密封墊形成的吸附空腔的大小形狀進(jìn)行調(diào)整；真空供給系統(tǒng)包括真空口氣管，真空口氣管的端部導(dǎo)通吸附空腔的內(nèi)部。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)吸附區(qū)域大小及吸附區(qū)域形狀的任意調(diào)整。

本發(fā)明授權(quán)一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種吸附區(qū)域大小形狀可任意自動調(diào)整的真空吸附設(shè)備，其特征在于，包括下壓吸附組件1、密封墊長度調(diào)整機(jī)構(gòu)2、密封墊大小形狀調(diào)整機(jī)構(gòu)3和真空供給系統(tǒng)4；所述下壓吸附組件1包括導(dǎo)向套5、導(dǎo)向桿6、真空吸附平臺7和吸附平臺驅(qū)動件8；所述密封墊長度調(diào)整機(jī)構(gòu)2包括密封墊吸附平臺9、條狀鑲磁密封墊10、卷料組件11、外整形磁鐵12和內(nèi)整形磁鐵13；所述導(dǎo)向套5和所述密封墊吸附平臺9固定連接，所述導(dǎo)向桿6的下端處于所述導(dǎo)向套5的內(nèi)部，所述導(dǎo)向桿6的上端連接所述真空吸附平臺7；所述吸附平臺驅(qū)動件8連接在所述真空吸附平臺7的下部；所述條狀鑲磁密封墊10的一端連接所述卷料組件11，所述條狀鑲磁密封墊10的另外一端吸附在所述密封墊吸附平臺9的上方，處于所述密封墊吸附平臺9的上方的所述條狀鑲磁密封墊10封閉形成吸附空腔14；所述外整形磁鐵12處于所述吸附空腔14的外部，所述內(nèi)整形磁鐵13處于所述吸附空腔14的內(nèi)部，所述外整形磁鐵12、所述內(nèi)整形磁鐵13均吸附在所述密封墊吸附平臺9；所述密封墊大小形狀調(diào)整機(jī)構(gòu)3包括旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭15、旋轉(zhuǎn)T軸模組16和位置調(diào)整驅(qū)動組件17，所述旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭15連接所述旋轉(zhuǎn)T軸模組16，所述旋轉(zhuǎn)T軸模組16連接所述位置調(diào)整驅(qū)動組件17，所述位置調(diào)整驅(qū)動組件17帶動所述旋轉(zhuǎn)T軸模組16及所述旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭15水平移動，所述旋轉(zhuǎn)T軸模組16帶動所述旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭15旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)強(qiáng)磁頭15帶動所述外整形磁鐵12、所述內(nèi)整形磁鐵13對所述條狀鑲磁密封墊10形成的所述吸附空腔14的大小形狀進(jìn)行調(diào)整；所述真空供給系統(tǒng)4包括真空口氣管，所述真空口氣管的端部導(dǎo)通所述吸附空腔14的內(nèi)部；所述密封墊吸附平臺9上設(shè)有第一導(dǎo)向軸承21和第二導(dǎo)向軸承22，所述條狀鑲磁密封墊10的一端從所述第一導(dǎo)向軸承21和所述第二導(dǎo)向軸承22之間穿過；穿過所述第一導(dǎo)向軸承21和所述第二導(dǎo)向軸承22之間的所述條狀鑲磁密封墊10一端，再從所述第一導(dǎo)向軸承21和所述第二導(dǎo)向軸承22之間引出；所述密封墊吸附平臺9設(shè)有密封氣缸23，所述第一導(dǎo)向軸承21連接所述密封氣缸23，所述密封氣缸23帶動所述第一導(dǎo)向軸承21壓緊所述第一導(dǎo)向軸承21和所述第二導(dǎo)向軸承22之間所述條狀鑲磁密封墊10，以使處于所述密封墊吸附平臺9的上方的所述條狀鑲磁密封墊10封閉形成吸附空腔14。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人成都思越智能裝備股份有限公司，其通訊地址為：611731 四川省成都市成都高新區(qū)新航路18號104棟1單元1層1號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。