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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理裝置和基板處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112838028B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011296423.4，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板處理裝置和基板處理方法是由井原亨;五師源太郎;山下剛秀設計研發完成，并于2020-11-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本基板處理裝置和基板處理方法在說明書摘要公布了：本發明提供能夠抑制形成于基板的表面的圖案的倒塌的基板處理裝置和基板處理方法。基板處理裝置執行：向收納有在表面附著有液體的基板的處理容器內供給處理流體而使處理容器內的壓力上升到比處理流體的臨界壓力高的處理壓力的工序；一邊將處理容器內的壓力維持在使處理流體維持超臨界狀態的壓力，一邊向處理容器供給處理流體，并從處理容器排出處理流體的工序。前者包括：使處理容器內的壓力上升到比臨界壓力高、比處理壓力低的第1壓力的工序；使處理容器內的壓力從第1壓力上升到處理壓力的工序。在使處理容器內的壓力升壓到第1壓力的工序中將基板的溫度控制為第1溫度，在升壓到處理壓力的工序中將基板的溫度控制為比第1溫度高的第2溫度。

本發明授權基板處理裝置和基板處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其是使用超臨界狀態的處理流體而使在表面附著有液體的基板干燥的基板處理裝置，其中，該基板處理裝置具有：處理容器，其收納所述基板；基板保持部，其在所述處理容器內以使所述表面朝上的方式將所述基板水平地保持；流體供給部，其向所述處理容器內供給處理流體；流體排出部，其從所述處理容器排出處理流體；以及控制部，其至少控制所述流體供給部和所述流體排出部的動作以及由所述基板保持部保持著的所述基板的溫度，所述控制部通過控制所述流體供給部和所述流體排出部的動作而執行如下工序：向收納有在所述表面附著有液體的基板的所述處理容器內供給所述處理流體而使所述處理容器內的壓力上升到比所述處理流體的臨界壓力高的處理壓力的工序；以及在所述處理容器內的壓力上升到所述處理壓力之后，一邊將所述處理容器內的壓力維持在使所述處理流體維持超臨界狀態的壓力，一邊向所述處理容器供給所述處理流體，并且從所述處理容器排出所述處理流體的工序，使所述處理容器內的壓力上升到所述處理壓力的工序包括如下工序：使所述處理容器內的壓力上升到比所述臨界壓力高、且比所述處理壓力低的第1壓力的工序；以及使所述處理容器內的壓力從所述第1壓力上升到所述處理壓力的工序，所述控制部在使所述處理容器內的壓力升壓到所述第1壓力的工序中將所述基板的溫度控制為第1溫度，所述控制部在使所述處理容器內的壓力升壓到所述處理壓力的工序中將所述基板的溫度控制為比所述第1溫度高的第2溫度，其中，所述第1溫度是使附著在所述基板的表面的液體在被所述處理流體置換之前難以蒸發的溫度，所述第2溫度是使附著在所述基板的表面的液體易于溶解于所述處理流體的溫度。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。